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一种大深度变焦偏振超表面全息3D显示系统
本发明提出一种大深度变焦偏振超表面全息3D显示系统,该系统包括激光器、偏振片、四分之一波片、超表面结构和偏振液体透镜。使用基于傅里叶远场衍射的分数阶傅里叶变换计算偏振超表面全息图,超表面结构是根据所计算的偏振超表面全息图的相位信息进行设计加...
低泵浦高同步透反射太赫兹全息超构阵列及其设计方法
本发明公开了一种低泵浦高同步透反射太赫兹全息超构阵列包括图案化金属层、响应材料层和衬底层;图案化金属层包括m×n个相同尺寸的图案化金属单元,各图案化金属单元均包括环形金属孔和设置在环形金属孔内的Z形结构;图案化金属层对应的相位分布由改进GS...
一种用于打印机的防护型硒鼓装置及其检测系统
本发明公开一种用于打印机的防护型硒鼓装置及其检测系统,涉及硒鼓装置领域,包括硒鼓主体、感光鼓、加粉机构和排废口,硒鼓主体的内部设有粉腔,感光鼓转动连接于硒鼓主体的正面,加粉机构位于硒鼓主体的侧部,加粉机构用于对粉腔内部加粉进行防掉粉保护,排...
一种硒鼓循环回收更换系统以及控制方法
本发明涉及硒鼓循环技术领域,具体公开了一种硒鼓循环回收更换系统以及控制方法,首先通过微波谐振与纳米压入多源融合检测,对废旧金属芯基材进行亚表面缺陷与局部力学性能的定量化表征,生成基材状态量化数据集,以此数据集与目标涂层参数为输入,进行多物理...
一种处理盒
本发明公开一种处理盒,包括鼓单元和显影单元,显影单元能够相对于鼓单元在第一位置和第二位置之间运动;第一力接收件,用于接收第一力施加件在第二方向上的作用力以带动显影单元相对于鼓单元运动;第二力接收件,用于接收第二力施加件在与第一方向和第二方向...
一种联动装置及图像形成装置
本申请涉及一种联动装置及图像形成装置,图像形成装置具有机体、传动系、驱动头和活动门,机体内安装成像组件,传动系用于传递马达的驱动力,设置于机体的驱动侧;驱动头接收传动系的驱动力并且能够移动与成像组件耦合或分离以向成像组件传递驱动力或切断驱动...
一种机电协同的激光打印机防废粉系统及其故障切换方法
本发明公开了一种机电协同的激光打印机防废粉系统及其故障切换方法,将机械遮挡与电子控制两种防废粉技术集成于一体,并设计了智能模式管理策略。系统默认采用可靠性高、效果直接的机械遮挡模式工作;同时实时监测机械单元的健康状态。一旦检测到机械故障,模...
图像形成设备
本申请涉及一种图像形成设备,包括机体,机体内设置有:成像单元、驱动单元、检测单元、清洁单元、推动单元和传动单元,成像单元用于在打印介质上成像,驱动单元用于驱动成像单元;检测单元包括至少一个检测元件,检测元件能够读取成像单元形成的图像,清洁单...
图像形成装置
公开了一种图像形成装置。图像形成装置包括主体和定影装置,该定影装置被配置为对调色剂进行定影并且包括加热单元、扭转线圈弹簧,该扭转线圈弹簧具有第一臂和第二臂并且是导电的并电连接到加热单元,其中,加热单元由框架支撑,第一臂的端部的前端与主体导体...
滑动部件、定影装置及图像形成装置
本发明公开了一种滑动部件、定影装置及图像形成装置,所述滑动部件具备:多个第一槽,所述第一槽沿供滑动对象物滑动的滑动面上的所述滑动对象物的滑动方向延伸,在所述滑动方向上隔开间隔地形成多个排列的列,且所述列在与所述滑动方向正交的正交方向上隔开间...
粉存储装置及供粉系统
本发明涉及打印设备技术领域,提供一种粉存储装置及供粉系统,其中粉存储装置包括:装置本体,装置本体具有储粉腔和送粉口,送粉口位于储粉腔的第一方向上;显影部件,转动设置于送粉口;信息携带组件,包括:设置于装置本体上的连接座;沿第一方向所在活动的...
成像单元、处理盒及打印系统
本发明提供一种成像单元、处理盒及打印系统,成像单元包括第一框架、感光鼓、充电辊组件和导电片,感光鼓、充电辊组件均安装在第一框架上,充电辊组件的充电辊与感光鼓接触,导电片安装在第一框架上并与充电辊组件电连接,其中,成像单元还包括弹性多孔吸附构...
一种基于机械遮挡的激光打印机防废粉控制装置及方法
本发明公开了一种基于机械遮挡的激光打印机防废粉控制装置及方法,针对现有A4幅面激光打印机打印A5等窄幅纸张时,感光鼓和显影辊两端非打印区域产生多余废粉导致废粉仓提前爆仓的问题,本发明提出通过可精密控制的伸缩式遮挡片物理隔绝非打印区域与碳粉接...
成像设备
提供了一种成像设备,其中,在满足用于执行材料间控制的条件的显影图像将要形成于材料上的情况下,成像设备执行材料间控制。所述条件是形成于第三区域中的显影图像的面积与第三区域的面积的比率超过阈值。第三区域是第一区域和第二区域之间的区域。第一区域和...
图像形成系统、图像形成方法及程序产品
本发明公开了一种图像形成系统、图像形成方法及程序产品,所述图像形成系统具备:连续供纸方式的打印装置;检查装置,所述检查装置检查从所述打印装置输出的印刷物;以及处理器,所述处理器使从所述打印装置输出的印刷物移送到所述检查装置,当在所述检查装置...
套刻标记、测量方法、可读存储介质及光刻设备
本申请公开了一种套刻标记、测量方法、可读存储介质及光刻设备,所述套刻标记通用性强,具体表现为:在结构上,其横线条与竖线条可独立或组合使用;在测量上,它兼容光刻机硅片对准系统与专用套刻测量设备两种平台,两种设备的测量结果可对比分析;在测量机制...
一种基于特征靶向的光刻对准补偿系统及方法
本发明涉及半导体制造、光刻对准及特征识别技术领域,具体公开一种基于特征靶向的光刻对准补偿系统及方法。以晶圆表面已曝光图形为唯一靶向基准,采用与光刻光路同轴的内置式视觉成像结构,结合亚像素级特征提取与动态基准实时更新机制,解算晶圆动态变形量并...
一种去除掩膜药水、低浓度碱性水溶液及去除掩膜方法
本发明公开了一种去除掩膜药水、低浓度碱性水溶液及去除掩膜方法。所述去除掩膜药水,包括下列质量百分比的原料:碱性活化剂5%~15%、溶胀剂0.5%~4%,表面活性剂0.3%~0.8%、络合稳定剂0.05%~0.3%,余量为超纯水。采用本发明提...
光刻胶去除方法及设备、控制方法、控制电路
本发明涉及半导体技术领域,具体而言,一种光刻胶去除方法及设备、控制方法、控制电路。其中,去除方法包括:将待处理晶圆设置在光刻胶去除腔室内的加热盘上方;待处理晶圆已经过离子注入工艺;控制待处理晶圆升降,直至待处理晶圆的温度达到第一温度为止,进...
一种光刻的掩膜工艺窗口分析方法及系统
本发明公开了一种光刻的掩膜工艺窗口分析方法及系统,属于光刻工艺技术领域,方法包括:采集曝光过程参数、光刻图形参数、窗口评价参数、辅助参数,以构建曝光分析向量;选取历史曝光分析向量,形成历史向量集,构建敏感度矩阵;通过在线检测构建实时特征向量...
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