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一种超声辅助液态镓在金属表面低温构建功能性界面的方法
本发明公开了一种超声辅助液态镓在金属表面低温构建功能性界面的方法,属于材料表面改性领域。所述方法包括:对铜、银、镍等金属基材进行预处理后,将其浸入液态镓中,在≤50℃的低温下施加低功率密度超声波处理数分钟,利用超声波空化效应克服固态原子扩散...
一种青铜器做旧方法
本申请涉及青铜器的领域,具体涉及一种青铜器做旧方法,包括以下步骤:S1:将青铜器的表面进行清洁,并在清洁后的青铜器表面均匀涂覆引蚀剂后静置,得到被氧化的青铜器;S2:对被氧化的青铜器的表面进行冲洗至洗出液清澈后,再将被氧化的青铜器整体浸泡于...
一种消除铝合金基体MFI沸石膜两面性能差异的制备工艺
本发明涉及金属防腐涂层技术领域,具体为一种消除铝合金基体MFI沸石膜两面性能差异的制备工艺,包括以下步骤:取氢氧化钠、去离子水、正硅酸乙酯和四丙基氢氧化铵制备MFI沸石膜合成母液;对铝合金基体进行表面处理;将铝合金基体置于盛有母液的反应釜内...
一种用于镀锌板的有机-无机复合碱性钝化剂及其制备方法
本发明涉及钝化剂技术领域,尤其涉及一种用于镀锌板的有机‑无机复合碱性钝化剂及其制备方法。一种用于镀锌板的有机‑无机复合碱性钝化剂,按质量百分比计由以下组分组成:树脂乳液20‑40%、碳化二亚胺0.5‑3%、硅溶胶3‑8%、硫酸氧钛0.2‑0...
一种铝合金表面环保化学钝化剂及其制备方法和应用
本发明涉及一种铝合金表面环保化学钝化剂及其制备方法和应用,属于金属表面处理技术领域。所述钝化剂为液态,原料配方如下:每升溶液中,高锰酸钾60 g/L~80 g/L,硫酸铝36 g/L~54 g/L,稳定剂0.9 g/L~1.2 g/L,浓硫...
一种带锈脆弱铁质文物加固保护处理方法
本发明公开了一种带锈脆弱铁质文物的加固保护处理方法,属于金属文物保护技术领域。该方法首先采用加固液对锈蚀层进行渗透处理,利用新生成铁锈产物的原位填充与原有锈蚀产物的诱导再生长,协同提升锈蚀层的致密性与颗粒间粘结强度;继而以乙醇、乙二醇与1,...
环保低渣低消耗磷化液及其制备方法
一种环保低渣低消耗磷化液及其制备方法,属于金属表面防锈处理液技术领域。其化学组成按质量百分数配比为:氧化锌8‑13%、硝酸8‑12%、磷酸17‑25%、柠檬酸0.5‑0.8%、硫酸羟胺0.3‑0.5%以及氨基磺酸0.3‑0.5%,余为水。步...
一种空调压缩机缸体表面发黑工艺
本发明涉及空调压缩机的缸体发黑处理技术领域,特别涉及一种空调压缩机缸体表面发黑工艺,包括步骤a、预脱脂,步骤b、化学脱脂,步骤c、一次水洗,步骤d、酸洗活化,步骤e、二次水洗,步骤f、碱性发黑,步骤g、三次水洗,步骤h、浸油封闭,步骤i、风...
一种高稳定性碱性化学镀镍磷铜三元合金镀液及施镀方法
本发明公开了一种高稳定性碱性化学镀镍磷铜三元合金镀液及施镀方法,属于金属表面处理技术领域。该方法通过复配柠檬酸钠、焦磷酸钠和乳酸钠作为络合剂,结合尿素和硫脲或硝酸铅作为稳定剂,有效抑制了Cu2+的优先置换反应,实现了Ni‑P‑Cu三元合金的...
一种新能源汽车熔断器镀银检测装置
本申请公开了一种新能源汽车熔断器镀银检测装置,包括容器、出液机构和触发机构,出液机构包括输送泵和多个出液模块,输送泵连接容器和出液模块,容器适于通过输送泵向出液模块输送溶剂,熔断器适于倒扣至出液模块上,出液模块适于向上方熔断器内部的铜排涂覆...
一种传输通道及真空处理设备
本发明提供一种传输通道及真空处理设备,所述真空处理设备包括至少一个可被抽真空的腔室;所述传输通道穿设所述腔室的侧壁,用于向所述腔室内的基座传送矩形基板;所述传输通道的外表面包括外顶面和外底面;所述外顶面为向上凸起的弧形曲面,和/或所述外底面...
可变压力投配方法和系统
公开了沉积材料的方法和用于沉积材料的系统。示例性方法包括在改变反应室内的压力的同时向衬底投配前体和/或反应物。
电池片加工设备及其控制方法、装置以及存储介质
本公开实施例公开了一种电池片加工设备的控制方法、控制装置以及存储介质,所述控制方法包括:获取所述电池片加工设备的进片室、处理室和出片室各自的状态信息;所述状态信息用于指示所述进片室、所述处理室以及所述出片室分别是否有待传输物料;根据所述进片...
在金属表面上选择性沉积介电材料的方法和系统
公开了一种相对于非金属表面在金属表面上选择性地沉积介电材料的方法。示例性方法包括使用第一反应物在非金属表面上选择性地形成期望的末端官能团,并且使第二反应物与末端官能团选择性地反应以在非金属表面上选择性地形成有机层。
用于大功率微波等离子体设备的金刚石膜生长散热基板及其应用
本发明公开了一种用于大功率微波等离子体设备的金刚石膜生长散热基板及其应用。金刚石膜生长散热基板的顶面开设有一个或两个以上用于放置样品的样品孔,具备散热性能好、抗形变能力强等优点,解决了微波等离子体分散吸附过程中温度场不均等问题。
一种用于ALD设备的气体分配器和通过ALD在晶圆上生长薄膜的通气方法
本发明属于原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种用于ALD设备的气体分配器和通过ALD在晶圆上生长薄膜的通气方法。所述用于ALD设备的气体分配器设置在反应室内且位于基台的上方;所述气体分配器包括进气口和具有圆锥螺旋形的输送通道,所述进气口与气...
一种基于局域直写技术的原子层沉积设备及方法
本发明公开了一种基于局域直写技术的原子层沉积设备及方法,设备包括:限定真空环境的沉积腔体、可控温精密位移平台、集成有微型反应头阵列及微区密封结构的可移动式局域反应单元、用于驱动局域反应单元进行空间运动的三维微动机构,以及多源前驱体输送系统。...
一种用于晶圆薄膜生长的炉管
本发明提供了一种用于晶圆薄膜生长的炉管,包括:炉体,具有反应腔室;晶舟,设于所述反应腔室内,用于承载晶圆;第一管道,具有第一气体排放段,所述第一气体排放段位于所述反应腔室内并沿着所述晶舟的轴向延伸,用于朝所述晶舟排放反应气体;匀流机构,包括...
一种基于流化床化学气相沉积的银包铜粉及其制备方法
本发明涉及金属复合材料制备技术领域,尤其公开了一种基于流化床化学气相沉积的银包铜粉及其制备方法,包括:铜粉原位还原:先在流化床反应器中对铜粉进行原位还原活化,使其氧含量降至500ppm以下,获得洁净表面;银层气相沉积包覆:将气态银前驱体通入...
基于复合陶瓷内衬的高纯硅化学气相沉积系统及方法
本发明提供了基于复合陶瓷内衬的高纯硅化学气相沉积系统,包括反应腔、加热单元、进气单元、尾气处理单元及控制单元;反应腔包括碳化硅‑六方氮化硼复合陶瓷材质的内衬。还提出了一种使用上述化学气相沉积系统制备高纯硅的方法,包括内衬表面预处理、沉积温度...
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