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  • 液晶透镜以及显示装置,涉及显示技术领域。液晶透镜包括:透镜区以及位于透镜区至少一侧的非透镜区,液晶透镜包括:衬底基板;第一金属层,设置在衬底基板的一侧,包括位于非透镜区的多条金属线;透明导电层,设置在第一金属层背离衬底基板的一侧,包括位于透...
  • 本发明涉及一种用于保护有价物品(10)的安全元件(20),具有基于液晶材料的花纹层,所述液晶材料设计和确定用于形成隐性花纹。根据本发明,在此规定,该安全元件(20)包括设置在载体箔(22)上的第一压印漆层(26)、部分地存在于第一压印漆层(...
  • 本发明涉及显示技术领域,公开了一种显示装置及其制作方法,包括:相对设置的第一基板与第二基板;第一基板和第二基板通过密封形成液晶盒;位于第一基板内侧的第一电极层;位于第二基板内侧的第二电极层;位于第一电极层与第二电极层之间的功能叠层;功能叠层...
  • 本发明针对现有电致变色显示器色彩单一、结构复杂、成本高的问题,提供了一种基于单一材料的宽色域电致变色器件及方法。传统器件颜色有限,实现宽色域需复杂结构或异质材料组合,制备困难;基于亚像素的结构也存在类似缺点。本发明核心是利用普鲁士蓝材料构建...
  • 本发明公开一种基于石墨烯对电极的电致变色器件及其制备方法,包括:从上至下依次为第一基板、第一电致变色层、对电极、第二电致变色层及第二基板;所述第一、第二电致变色层与对电极通过胶层连接;所述第一、第二基板都包括透明基板和覆于透明基板表面的透明...
  • 本发明涉及平板显示领域,公开了一种电泳显示装置和电子设备,电泳显示装置包括顶部基板、底部基板、电泳层和支撑层,顶部基板包括第一表面和第二表面,顶部基板的第二表面依次设置有滤光片层和像素电极层,像素电极层包括有多个子像素电极,顶部基板的第二表...
  • 本发明提供一种电子纸显示器装置及其驱动方法。电子纸显示器装置包括电子纸显示面板与栅极阵列驱动器,其中所述电子纸显示器装置中的电子纸显示面板及所述栅极阵列驱动器设置于电子纸显示器基板上。所述电子纸显示面板包括N条扫描线。所述驱动方法包括:基于...
  • 本发明公开了一种基于多通道窄带光滤波器芯片的可重构多频点高精细微波光子滤波器。基于多通道窄带光滤波器芯片,引入激光器作为光源,相位调制器生成调制光信号,光电探测器将滤波光信号转换到射频域输出,矢量网络分析仪提供射频信号并对输出信号进行射频域...
  • 一种光学模组驱动装置,包括:座台,设置于座台的一侧并驱动所述座台绕第一轴旋转的旋转驱动部,以摆动自如的方式支承于所述座台的另一侧并驱动光学模组绕与所述第一轴相垂直的方向摆动的倾斜驱动部,以及给所述光学模组供电的柔性电路板,其特征在于:所述柔...
  • 本发明公开了一种便携式摄影棚,属于摄影辅助设备技术领域,包括便携式储物箱,便携式储物箱包括箱体和箱盖,箱盖和箱体之间最大开启角度为钝角,以使开启后的箱盖的顶板和箱体的底板共同组成背景板放置区域,背景板放置区域用于平铺背景板,箱体内设有能够旋...
  • 本发明公开了一种高清投影灯, 包括:灯座包括收容腔与所述收容腔连通设置的投影口;投影构件包括至少一灯体、位于所述灯体上方的至少一投影轮盘以及投影镜头,所述投影镜头向上显露于所述投影口,所述投影轮盘包括至少一投影片,所述投影镜头包括多个镜片,...
  • 本发明公开了一种投影光学系统及投影光机,涉及投影光学技术领域,其中,投影光学系统具有沿光轴方向相对设置的物侧和像侧,投影光学系统包括由物侧到像侧依次设置的第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜以及屏幕,第一透镜的光焦度为正,第二透镜的光焦度...
  • 本发明涉及投影模组技术领域,具体公开了一种大灯投影模组,其包括依次设置的光源模块、X形二向色镜、复眼透镜、第一中继透镜、TIR棱镜、DMD芯片和投影镜头。其中,光源模块包括红光光源、绿光光源和蓝光光源,绿光光源与蓝光光源沿X轴间隔设置,红光...
  • 本发明公开了一种高对比度投影幕布及其加工方法,涉及投影显示技术领域。所述幕布包括黑色吸光基底、保护膜、全息膜组,全息膜组设置于黑色吸光基底和保护膜之间;黑色吸光基底的吸光面紧贴全息膜组,用于吸收经全息膜组透过的环境光;全息膜组由蓝光全息膜、...
  • 本申请实施例提供一种相移掩模版及其制造方法,所述相移掩模版包括:透光基板;覆盖所述透光基板的第一表面的掩模层;所述掩模层上具有用于光刻目标图案的凹槽;所述透光基板的所述第一表面在所述凹槽处显露;其中,所述掩模层包括:遮光区域和位于所述遮光区...
  • 本申请提供一种光学临近修正方法、装置、电子设备及存储介质,涉及半导体技术领域。该方法包括:获取通孔层的设计版图以及针对多个预设图形预先进行光刻后得到的多个偏差值,设计版图包括多个初始通孔图形,偏差值为预设图形和对应光刻图形之间的偏差值;根据...
  • 本发明提供一种金属层图形预处理方法、修正目标图形及刻蚀方法,其中金属层图形预处理方法是在添加亚分辨率辅助特征之后、光学邻近校正之前,增加以下步骤:选取原始目标图形中会形成热点区域的转角;将转角替换为斜线;将斜线阶梯化,得到优化后的目标图形,...
  • 本公开提供了一种两级矫正装置,可应用于掩模形变矫正技术领域。该装置包括:第一活动组件,第一活动组件的一端能够沿第一方向移动;第二活动组件,第二活动组件包括热隔离层和放大组件,放大组件通过热隔离层设于第一活动组件上,夹持组件,夹持组件包括弹性...
  • 本发明公开了一种曝光机光罩手动清洁装置,涉及光罩清洁技术领域,旨在解决现有手动清洁方式中人员难以精准控制静电除尘枪与光罩距离、新人培训周期长、光罩易划伤及清洁效率低的问题。该装置包括静电除尘枪主体,所述静电除尘枪主体的前端设有红外或超声波式...
  • 一种间巯基苯甲酸配位的锡氧簇光刻胶及其应用,本发明属于光刻材料技术领域。该光刻胶以间巯基苯甲酸配位的锡氧簇化合物为活性组分,与酯、酮、醇或烷烃类有机溶剂配制成光刻胶组合物,并可按需加入流平剂、光引发剂或光酸等辅助组分。该类团簇具有优异的热稳...
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