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最新专利技术
  • 双重防护银纳米线网络透明电极及其制备方法、电致变色器件
    双重防护银纳米线网络透明电极及其制备方法、电致变色器件_中国人民解放军96911部队_202511956660.1
    本发明提供了一种双重防护银纳米线网络透明电极及其制备方法、电致变色器件。该电极包括：柔性基底；设置于柔性基底上的导电网络层，导电网络层由Ag@Au核‑壳纳米线构成；以及包覆于导电网络层表面的密封层，密封层由硅烷偶联剂改性的氧化锌纳米颗粒构成...
    2026-04-30
  • 一种全固态全彩色电致变色显示结构及电子纸
    一种全固态全彩色电致变色显示结构及电子纸_东莞理工学院_202610180871.9
    本申请涉及电子纸的技术领域，公开了一种全固态全彩色电致变色显示结构及电子纸。该显示结构包括基底层、设置于基底层上的白色反射层和设置于白色反射层背离基底层的一侧的显示层；显示层包括中性色系电致变色层和彩色滤光层。本申请通过将中性色系电致变色层...
    2026-04-30
  • 一种基于电致变色材料的功率可调光伏组件
    一种基于电致变色材料的功率可调光伏组件_华润新能源投资有限公司宁夏分公司_202511808265.9
    本发明提供一种基于电致变色材料的功率可调光伏组件，涉及光伏发电技术领域，包括，透光调节装置，所述透光调节装置对光伏组件的前盖板进行复合层封装处理形成可控透光层。光功率响应建模装置，所述光功率响应建模装置对所述可控透光层的透光率和所述光伏组件...
    2026-04-30
  • 基于迁移强化学习的电致变色玻璃个性化控制方法及系统
    基于迁移强化学习的电致变色玻璃个性化控制方法及系统_广州大学_202610344604.0
    本发明公开了一种基于迁移强化学习的电致变色玻璃个性化控制方法及系统，其方法包括：S1、构建建筑环境仿真模型，利用仿真数据训练一个强化学习智能体的通用控制策略网络，得到一个基础通用模型；S2、将基础通用模型部署到实际电致变色玻璃控制系统中，根...
    2026-04-30
  • 一种BaGa4Se7晶体器件的加工方法
    一种BaGa4Se7晶体器件的加工方法_中国科学院理化技术研究所_202610349258.5
    本发明公开一种BaGa4Se7晶体器件的加工方法，包括以下步骤：S1：对BaGa4Se7晶体进行定向，确定晶体结晶轴方位；通过压电测试确定晶体极性轴的正负方向；根据器件设计的相位匹配角进行切割，得到晶体毛坯片；S2：对所述晶体毛坯片进行退火...
    2026-04-30
  • 基于TFLN的光子集成型宽带太赫兹发射器件
    基于TFLN的光子集成型宽带太赫兹发射器件_北京无线电计量测试研究所_202511950772.6
    本发明提供了一种基于TFLN的光子集成型宽带太赫兹发射器件，包括TFLN集成衬底与多个组件，所述多个组件包括脊形光学波导、太赫兹传输线、宽带发射天线及电光调制单元，所述多个组件中的各组件共面集成于所述TFLN集成衬底上，提高了宽带太赫兹发射...
    2026-04-30
  • 基于运动感知的运动相机实时光学滤镜调制系统及方法
    基于运动感知的运动相机实时光学滤镜调制系统及方法_无锡城市职业技术学院_202610025469.3
    本发明公开了一种基于运动感知的运动相机实时光学滤镜调制系统及方法，系统包括光照传感器模块、运动传感器模块、图像分析模块、中央控制单元和光学成像模组；方法包括如下步骤：S1、中央控制单元初始化e‑ND滤镜为全透状态，并获取录制帧率和基准感光度...
    2026-04-30
  • 用于生成3D数据的照明设备和传感器设备
    用于生成3D数据的照明设备和传感器设备_马瑞利德国有限公司_202511452326.2
    提供了一种照明设备(100)，该照明设备包括：至少一个光源(110)，用于生成至少一个第一中间光分布(Z1)，该第一中间光分布具体仅包括对于人类不可见的光；至少一个准直器(120)，用于根据第一中间光分布(Z1)生成至少一个第二中间光分布(...
    2026-04-30
  • 拨动组件及具有拨动组件的投影灯
    拨动组件及具有拨动组件的投影灯_广东时光生活科技有限公司_202410201222.3
    本发明公开了一种拨动组件及具有拨动组件的投影灯, 包括：基座包括向后贯穿的插槽；光源组件，安装于基座；推动组件可活动插拔于插槽，且位于光源组件的上方，推动组件包括投影片；拨动组件，包括主体部、安装于主体部的投影胶片、自主体部延伸形成的枢轴以...
    2026-04-30
  • 一种虚拟仿真教学投影装置
    一种虚拟仿真教学投影装置_徐州工业职业技术学院_202410244940.9
    本发明涉及投影技术领域，尤其为一种虚拟仿真教学投影装置，包括底座，所述底座底部的四个角均固定连接有万向轮，所述底座的内部设置有升降调节组件，所述升降调节组件的上方设置有投影仪，所述投影仪的外部设置有镜头防护组件，所述投影仪包括本体，所述本体...
    2026-04-30
  • 一种投影装置及投影系统
    一种投影装置及投影系统_京东方科技集团股份有限公司_202411487294.5
    本公开提供一种投影装置及投影系统，该投影装置包括：投影镜头；发光组件，用于出射第一初始偏振光和第二初始偏振光，第一初始偏振光与第二初始偏振光偏振方向垂直；偏振分光组件，用于反射第一初始偏振光得到反射偏振光，并允许第二初始偏振光透过得到透射偏...
    2026-04-30
  • 掩膜版版图、掩膜版组合以及拼接曝光的方法
    掩膜版版图、掩膜版组合以及拼接曝光的方法_中芯国际集成电路制造(北京)有限公司_202411487251.7
    一种掩膜版版图、掩膜版组合以及拼接曝光的方法，掩膜版版图包括：多个依次拼接的且具有用于进行拼接的拼接区域子版图，子版图包括第一子版图和第二子版图；第一子版图包括位于拼接区域中的第一拼接图形；第二子版图包括位于拼接区域中的第二拼接图形，且第二...
    2026-04-30
  • 一种相移掩模薄膜和相移掩模基板
    一种相移掩模薄膜和相移掩模基板_绍兴芯链半导体科技有限公司_202610236846.8
    本发明涉及一种相移掩模薄膜和相移掩模基板，相移掩模薄膜从下至上依次包括 : 过渡层，其被配置为提升所述基板与该过渡层的结合力，并实现初始应力缓冲；主体功能层，其被配置为提供相移和光学衰减；以及表面修饰层，其被配置为抵消所述主体功能层残留的应...
    2026-04-30
  • 一种改善金属层光罩缺陷的方法、OPC设备及存储介质
    一种改善金属层光罩缺陷的方法、OPC设备及存储介质_重庆芯联微电子有限公司_202511951870.1
    本发明公开了一种改善金属层光罩缺陷的方法、OPC设备及存储介质，所述方法包括，接收待处理版图，在所述待处理版图中确定待处理线端；根据所述待处理线端确定所述待处理线端上的临边OPC分段；在所述待处理线端中找到多个相互邻近的线端，每两个相互邻近...
    2026-04-30
  • 用于产生图案形成装置且因此产生图案的系统、产品和方法
    用于产生图案形成装置且因此产生图案的系统、产品和方法_ASML荷兰有限公司_202610033473.4
    具有指令的非暂时性计算机可读介质，指令在由计算机执行时使计算机执行用于改进图案形成装置的设计的方法。方法包括：获得掩模特征的设计的掩模点，其中，掩模特征与待印刷于衬底上的目标图案中的目标特征相关联；以及调整掩模点的位置，以基于被调整的掩模点...
    2026-04-30
  • 生物芯片及其制备方法
    生物芯片及其制备方法_深圳华大智造科技股份有限公司_202411486876.1
    本申请提供一种生物芯片及其制备方法，该制备方法包括于基底的表面上形成衬底；于衬底的表面形成牺牲层；于牺牲层的表面上形成压印胶层；对压印胶层进行压印和固化以形成固化胶层，固化胶层具有多个间隔设置的孔结构；去除每个孔结构内的牺牲层，以露出衬底；...
    2026-04-30
  • 抗蚀剂组成物、层叠体、图案形成方法及抗蚀剂组成物的制造方法
    抗蚀剂组成物、层叠体、图案形成方法及抗蚀剂组成物的制造方法_信越化学工业株式会社_202511503251.6
    本发明涉及抗蚀剂组成物、层叠体、图案形成方法及抗蚀剂组成物的制造方法。本发明的课题为提供在使用高能射线的光学光刻中，感度及极限解析度优良的非化学增幅抗蚀剂组成物、以及使用了该抗蚀剂组成物的层叠体、图案形成方法及前述抗蚀剂组成物的制造方法。该...
    2026-04-30
  • 感放射线性组合物、硬化物、透镜、平坦化膜、硬化物的制造方法及化合物
    感放射线性组合物、硬化物、透镜、平坦化膜、硬化物的制造方法及化合物_JSR株式会社_202511517698.9
    本发明提供一种感放射线性组合物、硬化物、透镜、平坦化膜、硬化物的制造方法及化合物，感放射线性组合物可获得在能够进行图案化的同时，耐化学品性及耐高温高湿性优异、而且折射率高的硬化物。设为一种感放射线性组合物，含有：芴化合物(A)，具有作为选自...
    2026-04-30
  • 一种光敏性锡可控掺杂氧化铟纳米簇的制备及表界面处理方法
    一种光敏性锡可控掺杂氧化铟纳米簇的制备及表界面处理方法_南京大学_202610070350.8
    本发明属于纳米功能氧化物材料的制备与调控技术领域，特别涉及一种光敏性锡可控掺杂氧化铟纳米簇的制备及表界面处理方法，本发明的光敏性锡可控掺杂氧化铟纳米簇尺寸在4~10 nm之间，锡的掺杂比例为0~10%，表面包覆有功能性光敏配体；本发明利用铟...
    2026-04-30
  • 一种感光干膜抗蚀剂及其制备方法和应用
    一种感光干膜抗蚀剂及其制备方法和应用_盛虹(上海)新材料科技有限公司_202610197048.9
    本发明提供一种感光干膜抗蚀剂及其制备方法和应用，所述感光干膜抗蚀剂按照重量百分比计，包括如下组分：碱溶性聚丙烯酸树脂40%~60%；光聚合单体30%~50%；光聚合引发剂1%~5%；添加剂5%~15%；所述碱溶性聚丙烯酸树脂通过第一单体、第...
    2026-04-30
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