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五金工具产品及配附件制造技术
  • 本实用新型涉及门把手加工技术领域,具体为一种高光泽度门把手的真空镀膜设备,包括外壳组件,所述外壳组件的内部两端通过轴承设置有两个连接轴,改良后的高光泽度门把手的真空镀膜设备,通过安装座、控制卡杆和连接轴的配合,使高光泽度门把手的真空镀膜设备...
  • 本申请提供粒子筛选装置和薄膜沉积设备,涉及半导体设备技术领域,用于解决如何提高粒子筛选装置的适用性的问题。具体的,该粒子筛选装置包括多个筛选件,多个筛选件层叠设置,每个筛选件阵列设置有筛选孔,多个筛选件的筛选孔连通。
  • 本实用新型公开了一种多功能线路板镀锌装置,包括由过滤仓和镀锌仓构成的池体,还包括过滤筒体,所述过滤筒体设置于过滤仓的内部,且所述池体外侧对应过滤仓位置处安装有循环泵,循环泵的输入端通过抽液管延伸至镀锌仓的内部,所述循环泵的输出端通过送液管与...
  • 本实用新型提供了一种气相沉积设备,包括设于腔体顶部的进气装置;导流装置沿腔体周向设置且一端围绕进气装置的出气侧以围成供气体通过的通道;侧部加热装置位于导流装置和腔体的外壁之间,并围设于导流装置外;顶部支架位于侧部加热装置上方,且一端装配于导...
  • 本实用新型公开了一种泛半导体薄膜沉积设备反应腔超大型上下板加工装置,包括:底板和定位旋转支架,所述底板中间设有中心定位孔;所述定位旋转支架包括上框、下框和支撑柱,所述上框是中间设置上十字加强梁的正方形框架,所述下框是中间设置下十字加强梁的正...
  • 本实用新型涉及材料科学技术领域,公开了一种SiC CVD涂层气化反应装置,包括外壳和封盖,所述封盖的前端左右侧均固定连接有连接管一,左侧所述连接管一的前端固定连接有MTS进料管,右侧所述连接管一的前端固定连接有氩气进气管,所述封盖的前端中部...
  • 本实用新型属于化学气相沉积技术领域,具体涉及石墨基CVD碳化硅环沉积工装,旨在提高碳化硅环沉积过程中的生产效率和产品质量;该工装包括直径调节组件和多个支撑组件,直径调节组件由基座、驱动盘、盖板和滑动座组成,能够根据待沉积碳化硅环的直径,通过...
  • 本实用新型涉及材料加工技术领域,尤其涉及一种物理气相沉积装置。本实用新型提供了这样一种物理气相沉积装置,包括有真空室、隔离板、拧杆、密封垫、气体导入系统、冷却系统和蒸发源,真空室前侧转动式设置有隔离板,隔离板左侧螺纹式设置有拧杆,拧杆与真空...
  • 本发明的膜的制造方法具备:光谱反射率计算步骤,根据通过光被膜反射而得到的反射光,计算光谱反射率;信息计算步骤,根据计算出的光谱反射率,在规定的波长范围内计算与光谱反射率的极值的个数和极值的波长位置关系相关的信息;以及控制步骤,基于计算出的信...
  • 本发明提供一种通过平衡梁对塔身绞车进行吊装方法,所述起重机塔身相对设置有前腔孔和后腔孔,所述塔身内部设置有绞车,包括起重装置和平衡梁,所述起重装置包括前吊钩和后吊钩,所述平衡梁设置有固定装置,所述固定装置包括上吊耳、下吊耳和连接孔,所述上吊...
  • 本发明涉及益生菌冲剂技术领域,更具体的说是一种益生菌冲剂及其制备方法;步骤一:将原料按照配比混合之后使用热水融化之后得到凝胶;步骤二:将凝胶注入到制备装置当中进行排气并烘干;步骤三:将烘干之后的凝胶进行研磨制粉;步骤四:将研磨得到的粉末进行...
  • 本发明公开了一种本征非晶硅钝化层的制备工艺,包括如下步骤:利用PECVD设备在制绒清洗后的晶硅基底上制备第一本征非晶硅薄膜,沉积过程中控制沉积功率分3‑5个阶段逐步降低,沉积功率每阶段的降幅是等值或不等值,功率密度从50‑80mW/cm2梯...
  • 新型移动式悬臂吊装机构,属于吊装设备技术领域,包括电动卷扬机、悬臂、车体、吊钩、钢丝绳、滑轮、控制箱、电动推杆、压力传感器、固定臂,还具有检测电路;电动卷扬机、悬臂、吊钩、钢丝绳、滑轮、控制箱、电动推杆、压力传感器、固定臂、检测电路和车体安...
  • 滤光镜边缘镀膜‌是指在滤光镜的边缘部分进行镀膜处理,以改善其光学性能和耐用性,一种滤光片边缘镀膜装置,包括设备架(1),所述设备架(1)由多根竖直设置的支撑杆和连接支撑杆的圆环组成,所述设备架(1)顶面固接有设备壳(2),所述设备壳(2)前...
  • 本发明公开了复合型镀膜装置,包括卷绕组件,所述卷绕组件包括依次转动设置的放卷辊、导向辊和收卷辊,以及转动设置于薄膜传输路径上并贴合于薄膜的张力调节辊;所述张力调节辊包括辊架,所述辊架上围合设置有多个扇形辊片,多个扇形辊片相拼合形成柱状辊体,...
  • 根据本发明的一实施例,区域选择性薄膜形成方法包括:核生长阻滞剂供应步骤,将核生长阻滞剂供应至置有基板的腔体之内,使所述核生长阻滞剂吸附至所述基板的非生长区域;净化所述腔体内部的步骤;前驱体供应步骤,向所述腔体内供应前驱体,使得所述前驱体吸附...
  • 本申请涉及外延片生产技术领域,公开了一种半导体生产用外延片的自动化处理方法及系统。方法包括:对代表晶圆执行离子注入与再结晶热处理,并在其正、背面分别制作用于定位与应力引导的第一、第二标记。将标记晶圆依次放置于外延生长装置基座上的多个不同位置...
  • 本发明涉及化工材料领域,尤其是在金属酸洗工业中的金属防护,具体为一种咪唑基离子液体缓蚀剂的制备方法及其应用。咪唑基离子液体缓蚀剂溴化1‑(4’‑联苯基甲基)‑3‑(2‑乙氧基‑2‑氧代乙基)‑1H‑咪唑‑3‑鎓的化学结构式为:本发明的咪唑基...
  • 一种用于选择性钝化衬底表面的方法,其中衬底表面包括包含氮化硅的至少第一表面和包含氮化硅以外的材料的至少第二表面。该方法包括将表面暴露于至少一种醇的步骤,其中醇选择性地与氮化硅反应以钝化第一表面,从而使第二表面基本上未反应。
  • 本发明属于金属表面处理技术领域,公开了一种强渗透、低腐蚀的压铸铝脱脂剂及其制备方法和应用。本发明压铸铝脱脂剂包括活性物和水;以压铸铝脱脂剂的总质量为100%计,活性物包括有机弱酸6‑10%、壳寡糖0.5‑1.5%、茶多酚0.5‑1.2%、姜...
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