株式会社迪思科木村展之获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社迪思科申请的专利晶片检查装置和晶片检查方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113739716B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-08发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110569445.1，技术领域涉及：G01B11/24；该发明授权晶片检查装置和晶片检查方法是由木村展之设计研发完成，并于2021-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶片检查装置和晶片检查方法在说明书摘要公布了：本发明提供晶片检查装置和晶片检查方法，精密地判定晶片的内部的改质层的形成状态。晶片检查装置具有：保持工作台，其能够在使晶片的背面侧向上方露出的状态下对晶片进行保持；点光源，其发出向保持工作台所保持的晶片的背面侧照射的光；和拍摄单元，其对从点光源发出并照射到晶片的背面上的光的反射光进行拍摄，拍摄单元包含：成像透镜，其面对保持工作台所保持的晶片；分光器，其被定位于成像透镜的成像点；和照相机，其配设在由分光器分支的第一光路上，点光源配设在由分光器分支的第二光路上，在第二光路上配设有准直透镜和聚光透镜，准直透镜将从点光源发出的光生成为平行光，聚光透镜将由准直透镜生成的平行光聚光于分光器。
本发明授权晶片检查装置和晶片检查方法在权利要求书中公布了：1.一种晶片检查装置，其对内部形成有改质层的晶片进行检查，其特征在于， 该晶片检查装置具有： 保持工作台，其能够在使该晶片的背面侧向上方露出的状态下对该晶片进行保持； 点光源，其发出向该保持工作台所保持的该晶片的该背面侧照射的光；以及 拍摄单元，其对从该点光源发出并照射到该晶片的该背面上的该光的反射光进行拍摄， 该拍摄单元包含： 成像透镜，其面对该保持工作台所保持的晶片； 分光器，其被定位于该成像透镜的成像点；以及 照相机，其配设在由该分光器分支的第一光路上， 该点光源配设在由该分光器分支的第二光路上， 该点光源所发出的该光是激光束， 在该第二光路上配设有准直透镜和聚光透镜，该准直透镜将从该点光源发出的光生成为平行光，该聚光透镜将由该准直透镜生成的该平行光聚光于该分光器。
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