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龙图腾网获悉苏州凯芯半导体材料有限公司申请的专利正性光刻胶组合物及其应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120233631B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410700017.1，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权正性光刻胶组合物及其应用是由余亮;高晓义;于洪超设计研发完成，并于2024-05-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本正性光刻胶组合物及其应用在说明书摘要公布了：本发明提供了一种正性光刻胶组合物及其应用，正性光刻胶组合物按质量百分比计，包含：20‑35％甲酚酚醛树脂A，3‑15％甲酚酚醛树脂B、5‑10wt％感光剂、0.01‑2％添加剂及50‑70wt％溶剂。甲酚酚醛树脂A的重均分子量为15000‑30000，甲酚酚醛树脂B的重均分子量为5000‑10000；感光剂为主要吸收波长在365‑436nm范围内、吸收强度不小于14Lg·cm的芳香族化合物。光刻胶组合物能够适应G线、H线和I线的不同加工工艺，在膜厚达到10‑20μm时，具有较高的耐化性和陡直度，侧面形貌倾斜角不低于83°，图形分辨率达到5‑10μm；且具有优良的电镀耐受性。

本发明授权正性光刻胶组合物及其应用在权利要求书中公布了：1.一种正性光刻胶组合物，其特征在于，按照质量百分比计，包含如下组分：20-35%甲酚酚醛树脂A，3-15%甲酚酚醛树脂B、5-10wt%感光剂、0.01-2wt%添加剂和50-70wt%溶剂； 其中，所述甲酚酚醛树脂A的重均分子量为15000-28000，甲酚酚醛树脂B的重均分子量为5000-10000； 所述添加剂包括第一添加剂和第二添加剂； 所述第一添加剂选自双酚A、4,4'-1-甲基亚乙基双2-甲基苯酚、4-2-苯基丙-2-基苯-1,3-二醇、4-[4-羟基-3,5-二甲基苯基-2-羟基苯基甲基]-2,6-二甲基苯酚、4-[4-羟基-2,5-二甲基苯基-2-羟基苯基甲基]-2,5-二甲基苯酚、4,4-亚甲基双2,6-二甲基酚中的至少一种； 所述第二添加剂选自乙氧基化C1214仲醇类、a[3,5二甲基12甲基丙基己基]w羟基聚氧代1,2乙二基、部分氟化醇取代乙二醇、全氟代烷亚磺酰氨基丙烯酸酯聚烷烯丙烯酸酯的共聚物中的至少一种。

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