重庆芯联微电子有限公司冯乐获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉重庆芯联微电子有限公司申请的专利版图优化方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119335810B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411692047.9，技术领域涉及：G03F7/00；该发明授权版图优化方法及系统是由冯乐;林义栩;陈咏翔;曾鼎程;范富杰;胡展源设计研发完成，并于2024-11-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本版图优化方法及系统在说明书摘要公布了：本发明提供了一种版图优化方法及系统，属于半导体领域。该版图优化方法包括提供初始版图，所述初始版图包括若干分立排布的主图形；筛选所述主图形中的目标图形，所述目标图形包括第一目标图形和第二目标图形。获取辅助图形的添加规则，在所述第一目标图形的外围添加辅助图形。将两个所述第一辅助图形沿着朝向第二目标图形的方向延伸，并与第二辅助图形延伸的图形连接，形成目标辅助图形。基于所述目标辅助图形，使所述初始版图形成为优化版图。本发明通过采用优化版图进行光刻，当工艺条件发生变化时，在光刻胶层形成的轮廓变化更小。在接下来的刻蚀工艺中，能够保持刻蚀工艺稳定，使得光刻胶层形成的轮廓如预期，提高芯片良率。
本发明授权版图优化方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种版图优化方法，其特征在于，包括： 提供初始版图，所述初始版图包括若干分立排布的主图形； 筛选所述主图形中的目标图形，所述目标图形包括第一目标图形和第二目标图形，所述第一目标图形朝向所述第二目标图形的延长线与所述第二目标图形相交； 获取辅助图形的添加规则，并基于添加规则，在所述第一目标图形的外围添加辅助图形，所述辅助图形包括位于第一目标图形两侧的第一辅助图形和位于第一目标图形与第二目标图形之间的第二辅助图形； 将两个所述第一辅助图形沿着朝向第二目标图形的方向延伸，并与第二辅助图形延伸的图形连接，形成目标辅助图形，以对辅助图形进行优化，从而对所述初始版图进行优化，形成优化版图，其中，所述第二辅助图形沿与所述第二目标图形平行的方向延伸。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人重庆芯联微电子有限公司，其通讯地址为：401332 重庆市沙坪坝区高新区西永街道西永大道28-2号SOHO楼601-A153；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励