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龙图腾网获悉季华实验室申请的专利一种导角掩膜板及其制备方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117587359B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202311579094.8，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权一种导角掩膜板及其制备方法是由杨一新设计研发完成，并于2023-11-23向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种导角掩膜板及其制备方法在说明书摘要公布了：本发明涉及掩膜板制作技术领域，公开了一种导角掩膜板及其制备方法，其包括步骤：在透明载板上依次制备导电膜、固光阻膜、第一光阻膜，光刻第一光阻膜形成第一导角光阻膜图案，电铸形成第一导角电铸膜；在第一导角光阻膜图案和第一导角电铸膜上制备第二光阻膜，光刻第二光阻膜形成第二导角光阻膜图案，在第一导角电铸膜上电铸制备第二导角电铸膜，形成的导角电铸膜组件绑定于掩膜框，最后脱模形成导角掩膜板。本发明通过电铸法可将掩膜板的厚度做的足够薄，同时通过两次电铸给掩膜板的孔洞设置导角，通过本发明方法可以制得厚度较薄且孔洞导角精度较高的掩膜板，该掩膜板有助于在基板像素内均匀充填有机膜，从而提高像素填充率以及材料利用率。

本发明授权一种导角掩膜板及其制备方法在权利要求书中公布了：1.一种导角掩膜板的制备方法，其特征在于，包括步骤： 在透明载板上制备导电膜； 在所述导电膜上制备固光阻膜； 在所述固光阻膜上制备第一光阻膜； 对所述第一光阻膜进行光刻处理，形成第一导角光阻膜图案； 在所述固光阻膜上进行第一次电铸处理，得到与所述第一导角光阻膜图案互补的第一导角电铸膜，所述第一导角电铸膜形成的孔洞导角侧边与所述透明载板平面的夹角α为30°-60°； 在所述第一导角光阻膜图案和第一导角电铸膜上制备第二光阻膜； 对所述第二光阻膜进行光刻处理，形成第二导角光阻膜图案； 在所述第一导角电铸膜上进行第二次电铸处理，得到与所述第二导角光阻膜图案互补的第二导角电铸膜，所述第二导角电铸膜形成的孔洞导角侧边与所述透明载板的夹角β为120°-150°，所述第二导角电铸膜与所述第一导角电铸膜形成导角电铸膜组件，所述第一导角电铸膜形成的孔洞中心线与所述第二导角电铸膜形成的孔洞中心线重合； 将所述导角电铸膜组件绑定于掩膜框，形成掩膜板； 将所述透明载板、导电膜以及掩膜板进行剥离，具体包括：采用激光照射所述透明载板背离所述掩膜板的表面，以使所述掩膜板与导电膜以及透明载板初步分离；通过机械剥离工艺或超声剥离工艺，将所述掩膜板与所述导电膜以及透明载板分离； 洗净掩膜板上光阻异物，制得导角掩膜板，其中，所述第一光阻膜和第二光阻膜的厚度独立地选择为1-20μm；所述第一导角电铸膜和第二导角电铸膜的材料不同。

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