株式会社国际电气寿崎健一获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社国际电气申请的专利基板处理装置、液体原料补充系统、半导体装置的制造方法、基板处理方法及记录介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116569312B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080107745.1，技术领域涉及：H10P14/60；该发明授权基板处理装置、液体原料补充系统、半导体装置的制造方法、基板处理方法及记录介质是由寿崎健一设计研发完成，并于2020-12-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本基板处理装置、液体原料补充系统、半导体装置的制造方法、基板处理方法及记录介质在说明书摘要公布了：提供一种技术，具有：气化容器，其使液体原料在内部气化；液体原料补充管线，其一端与气化容器连接，另一端与液体原料的供给源连接；第一阀，其设置于液体原料补充管线；第二阀，其设置于液体原料补充管线的比第一阀靠上游侧的位置；液体原料贮存部，其形成于第一阀与所述第二阀之间；以及控制部，其控制第一阀和第二阀的开闭，以便通过在关闭了第一阀的状态下开放第二阀而向液体原料贮存部填充了液体原料之后，关闭第二阀而开放第一阀而将填充于液体原料贮存部的液体原料向气化容器内排出的填充排出处理，来向气化容器内供给液体原料。
本发明授权基板处理装置、液体原料补充系统、半导体装置的制造方法、基板处理方法及记录介质在权利要求书中公布了：1.一种基板处理装置，其特征在于，具有： 气化容器，其使液体原料在内部气化； 液体原料补充管线，其一端与形成于所述气化容器内的喷嘴连接，另一端与所述液体原料的供给源连接； 第一阀，其设置于所述液体原料补充管线中与所述喷嘴连续且轴向成为上下方向的部分； 第二阀，其设置于所述液体原料补充管线的比所述第一阀靠上游侧且所述第一阀的上方的位置； 液体原料贮存部，其形成于所述第一阀与所述第二阀之间；以及 控制部，其构成为能够控制所述第一阀和所述第二阀的开闭，以便通过在关闭所述第一阀的状态下开放所述第二阀而向所述液体原料贮存部填充了所述液体原料后，关闭所述第二阀而开放所述第一阀，将填充于所述液体原料贮存部的所述液体原料向所述气化容器内排出的填充排出处理，来向所述气化容器内供给所述液体原料。
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