旭化成株式会社斋藤正人获国家专利权
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龙图腾网获悉旭化成株式会社申请的专利层积体及其制造方法、以及铜布线获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116209147B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310310339.0，技术领域涉及：H05K1/09；该发明授权层积体及其制造方法、以及铜布线是由斋藤正人;汤本彻;鹤田雅典设计研发完成，并于2018-07-18向国家知识产权局提交的专利申请。
本层积体及其制造方法、以及铜布线在说明书摘要公布了：本发明涉及层积体及其制造方法、以及铜布线。一种层积体，其特征在于，该层积体具备支撑体、配置在所述支撑体所构成的面上的包含氧化铜和磷的涂布层、以及按照覆盖所述涂布层的方式配置的树脂层。
本发明授权层积体及其制造方法、以及铜布线在权利要求书中公布了：1.一种用于制造具有导电性图案区域的结构体的层积体，其特征在于，该层积体具备支撑体、配置在所述支撑体所构成的面上的包含氧化铜和含磷有机物的涂布层、以及按照覆盖所述涂布层的方式配置的树脂层，所述含磷有机物具有选自由聚乙二醇结构、聚丙二醇结构、聚缩醛结构、聚丁烯结构以及多硫化物结构组成的组中的一种以上的骨架， 所述氧化铜为含有所述氧化铜的微粒，设所述微粒的总体积为100体积份时，所述含磷有机物的含量为5体积份以上900体积份以下，相对于所述涂布层，氧化铜微粒的含量为10体积%以上90体积%以下。
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