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龙图腾网获悉南京航空航天大学;南京航空航天大学苏州研究院申请的专利一种光学散射测量的自适应优化方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116127835B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-05发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211641355.X，技术领域涉及：G06F30/27；该发明授权一种光学散射测量的自适应优化方法是由孟凯;徐翊航;楼佩煌;钱晓明;武星设计研发完成，并于2022-12-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光学散射测量的自适应优化方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种光学散射测量的自适应优化方法，针对待测纳米结构进行参数化建模并搭建基础粗粒度样本库；以该样本库为基础训练构建粗粒度代理模型，并通过该代理模型完成多重点区域的快速识别；而后根据重点区域进行自适应采样建库，此时生成的样本库即为精粒度样本库；以该样本库为基础训练构建精粒度代理模型，并通过该模型完成在重点区域内的精粒度搜索优化，寻找多重点区域内的最优值，该最优值即为待测样本的相关参数。本发明能够通过变粒度的代理模型缩小搜索范围并快速建库，通过自适应的寻优策略提高优化效率，进而实现准确、高效地求解待测样本的相关参数。

本发明授权一种光学散射测量的自适应优化方法在权利要求书中公布了：1.一种光学散射测量的自适应优化方法，其特征在于，包括如下步骤： 步骤1，根据工艺要求针对特定类半导体纳米结构进行参数化建模，生成粗粒度的光学散射响应样本库α； 粗粒度的光学散射响应样本库的输入参数包括：纳米结构、材料参数、工艺节点、测量配置参数；粗粒度的光学散射响应样本库的输出散射响应的表达形式包括待测结构的反射率、衍射效率、琼斯矩阵、穆勒矩阵； 纳米结构包括线宽、线高、侧壁角；材料参数包括折射率n、消光系数k；测量配置参数包括测量入射角、测量方位角、入射光波长； 步骤2，基于光学散射响应样本库α训练构建粗粒度代理模型S1； 以光学散射响应样本库α为采样空间进行采样设计，而后生成训练集，并以此训练集训练构建粗粒度的代理模型S1； 该步骤采用的采样方法包括拉丁超立方采样LHD或均匀设计UD； 步骤3，基于粗粒度代理模型S1进行全局粗搜索，完成对多个重点区域的快速识别； 步骤4，基于上述重点区域内的待测参数变化范围进行精粒度快速建库，生成光学散射响应样本库β； 步骤5，基于光学散射响应样本库β训练构建精粒度代理模型S2； 以光学散射响应样本库β为采样空间进行采样，而后生成训练集，并以此训练构建精粒度的代理模型S2，采用基于方差、基于交叉验证误差、基于局部梯度的自适应采样方法； 步骤6，基于代理模型S2针对重点区域进行精搜索，此时多个重点区域内的最优值即为最终输出的待测参数。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人南京航空航天大学;南京航空航天大学苏州研究院，其通讯地址为：210016 江苏省南京市御道街29号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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