冯志获国家专利权
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龙图腾网获悉冯志申请的专利一种CMP设备的自动平行研磨装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224182792U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-05-01发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521129273.6，技术领域涉及：B24B37/00；该实用新型一种CMP设备的自动平行研磨装置是由冯志设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种CMP设备的自动平行研磨装置在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种CMP设备的自动平行研磨装置，涉及化学机械研磨装置领域，包括：CMP设备主体，所述CMP设备主体上侧内部安装有研磨台、抛光头、研磨垫修整器和研磨液喷头支撑臂；所述研磨液喷头支撑臂底端面右侧开设有凹槽，且凹槽内部滑动连接有研磨液喷头，所述研磨液喷头支撑臂前端面设置有往复带动机构。通过往复带动机构的设置，可在研磨液喷头喷淋研磨液时，带着研磨液喷头左右往复移动，有效提升了研磨液喷头在喷淋研磨液时的均匀性，同时显著增强了晶圆表面研磨的加工效率；解决了现有CMP设备上的研磨液喷头在喷液过程中，由于始终处于固定不动状态，导致研磨液喷头喷淋研磨液时均匀性较差，影响对晶圆表面的磨平效率的问题。
本实用新型一种CMP设备的自动平行研磨装置在权利要求书中公布了：1.一种CMP设备的自动平行研磨装置，包括：CMP设备主体1，所述CMP设备主体1上侧内部安装有研磨台101、抛光头102、研磨垫修整器103和研磨液喷头支撑臂104；其特征在于，所述研磨液喷头支撑臂104底端面右侧开设有凹槽1010，且凹槽1010内部滑动连接有研磨液喷头109，所述研磨液喷头支撑臂104前端面设置有往复带动机构2；所述CMP设备主体1下侧内部安装有储液罐105，且储液罐105底部设置有联动式防沉淀机构3；所述往复带动机构2包括带动电机201，所述带动电机201安装在研磨液喷头支撑臂104前端面左侧，且带动电机201的转轴上固定安装有驱动圆盘202，驱动圆盘202前端面边缘处通过转轴转动连接有连杆203，连杆203另一端转动连接有带动柱204，带动柱204后端固定连接有带动块205，且带动块205与研磨液喷头109前端面固定连接。
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