联合光科(重庆)精密科技有限公司付治获国家专利权
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龙图腾网获悉联合光科(重庆)精密科技有限公司申请的专利一种半导体硅片研磨清洁装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224178562U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520949190.5，技术领域涉及：H10P72/00；该实用新型一种半导体硅片研磨清洁装置是由付治;邹洁设计研发完成，并于2025-05-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种半导体硅片研磨清洁装置在说明书摘要公布了：本实用新型涉及硅片清洁技术领域，尤其是指一种半导体硅片研磨清洁装置，它包括清洁架和清洁箱，清洁箱安装于清洁架内底部；清洁箱上方设有固定于清洁架内的支撑板，支撑板上开有若干个上下贯通的清洁口，清洁口内的两侧均设有夹板，夹板外侧均设有弹性复位组件；清洁架内顶部转动连接有往下转动贯穿过支撑板中部的轴管；本实用新型利于对每个清洁口内的硅片进行旋转喷洒清洁液并进行清洗，且利于同时冲洗硅片上下面，无需翻转硅片，更好的提升了清洁效率，并且结合旋转的软绵刷对硅片上下面同时扫刷清理，利于更加干净的将硅片清洁干净，从而保证硅片后续使用效果。
本实用新型一种半导体硅片研磨清洁装置在权利要求书中公布了：1.一种半导体硅片研磨清洁装置，包括清洁架1和清洁箱2，所述清洁箱2安装于清洁架1内底部，其特征在于： 所述清洁箱2上方设有固定于清洁架1内的支撑板3，所述支撑板3上开有若干个上下贯通的清洁口4，所述清洁口4内的两侧均设有夹板5，所述夹板5外侧均设有弹性复位组件； 所述清洁架1内顶部转动连接有往下转动贯穿过支撑板3中部的轴管11，所述支撑板3上下部的左右两侧均设有与轴管11连通的清洁管12，所述清洁管12内侧均相接有软绵刷14和若干个喷头13，所述喷头13均与相邻清洁管12连通，所述轴管11外设有旋转驱动组件。
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