无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司高修奎获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司申请的专利反应腔室装置及半导体设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224177311U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521142256.6，技术领域涉及：H01J37/32；该实用新型反应腔室装置及半导体设备是由高修奎;娄俊飞;杨文宾;孙文彬设计研发完成，并于2025-06-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本反应腔室装置及半导体设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于半导体加工技术领域，公开了反应腔室装置及半导体设备，反应腔室装置的主腔体内具有相互连通的第一反应腔室和第二反应腔室，延伸腔体内具有第三反应腔室，第二反应腔室内设有第一载台和第二载台，主腔体设有第一引导孔、第二引导孔和中心引导孔，中心引导孔位于第一载台和第二载台之间，第一引导孔位于第一载台远离第二载台一侧，第二引导孔位于第二载台远离第一载台一侧，第一引导孔、第二引导孔和中心引导孔均连通于第三反应腔室流入端，第三反应腔室流出端连通外部抽真空设备。本实用新型的反应腔室装置能保持晶圆表面去胶均匀性，提高半导体设备加工质量。
本实用新型反应腔室装置及半导体设备在权利要求书中公布了：1.反应腔室装置，其特征在于，包括相互连接的主腔体1和延伸腔体2，所述主腔体1内部具有相互连通的第一反应腔室11和第二反应腔室12，所述延伸腔体2内部具有第三反应腔室21，所述第二反应腔室12内设置有第一载台31和第二载台32，所述主腔体1上开设有第一引导孔13、第二引导孔14和中心引导孔15，所述中心引导孔15位于所述第一载台31和所述第二载台32之间，所述第一引导孔13位于第一载台31远离所述第二载台32的一侧，所述第二引导孔14位于所述第二载台32远离所述第一载台31的一侧，所述第一引导孔13、所述第二引导孔14和所述中心引导孔15均连通于所述第三反应腔室21的流入端，所述第三反应腔室21的流出端连通外部抽真空设备100。
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