无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司兰丽丽获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司申请的专利真空腔室的进气组件及气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224172855U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521070955.4，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型真空腔室的进气组件及气相沉积设备是由兰丽丽;师宇浩;胡友杰;吴承志;刘丹设计研发完成，并于2025-05-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本真空腔室的进气组件及气相沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种真空腔室的进气组件及气相沉积设备，涉及半导体制造技术领域。该真空腔室的进气组件包括进气环和匀气环，进气环设有径向延伸的进气流道。匀气环同轴设于进气环内圈，匀气环设有与进气流道连通的进气孔、沿周向均匀分布的出气孔，以及连接进气孔和出气孔的环形流道，环形流道配置为将气体从进气孔均匀分配至各出气孔。该进气组件不仅保证了沉积薄膜的均匀性；而且通过在进气环和匀气环上分别设计流道，降低了加工难度。沿径向延伸的进气流道为直流道，长度较短；用于连通进气孔和出气孔的环形流道拐角少，简化了流道行程，减少了气体流动阻力，进而提高了气体流速。
本实用新型真空腔室的进气组件及气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.真空腔室的进气组件，其特征在于，包括： 进气环1，设有径向延伸的进气流道11； 匀气环2，同轴设于所述进气环1内圈，所述匀气环2设有与所述进气流道11连通的进气孔21、沿周向均匀分布的出气孔22，以及连接所述进气孔21和所述出气孔22的环形流道23，所述环形流道23配置为将气体从所述进气孔21均匀分配至各所述出气孔22。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人无锡邑文微电子科技股份有限公司;江苏邑文微电子科技有限公司，其通讯地址为：214000 江苏省无锡市新吴区观山路1号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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