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龙图腾网获悉光驰半导体技术(上海)有限公司申请的专利一种化学气相沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224172851U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520910953.5，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型一种化学气相沉积设备是由周皓天;魏兴卿;杨启忠;魏晓庆;赵磊设计研发完成，并于2025-05-09向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种化学气相沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型属于真空镀膜技术领域，公开一种化学气相沉积设备。化学气相沉积设备包括真空腔室、旋转组件和加热组件，旋转组件包括驱动件和旋转件，旋转件转动连接于真空腔室的腔壁，旋转件设有穿设孔，穿设孔的顶端开口处设置有衬底载盘；驱动件用于驱动旋转件转动；加热组件包括第一加热件和第二加热件，第一加热件的第一端位于穿设孔内，并具有盘状加热区，用于加热衬底的中心区域，第二加热件的第一端位于真空腔室内，并具有环状加热区，用于加热衬底的外围区域。本实用新型能有效控制大尺寸衬底温度均匀性，也适用于对小尺寸衬底的加热，适用范围较广，此外，不会出现下部的气体受热膨胀上升至上部冷凝后下降的情况。

本实用新型一种化学气相沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括： 真空腔室1； 旋转组件2，包括驱动件21和旋转件22，所述旋转件22转动连接于所述真空腔室1的腔壁，所述旋转件22设有穿设孔221，所述穿设孔221的顶端开口处设置有衬底载盘23，所述衬底载盘23用于承载衬底；所述驱动件21固定于所述真空腔室1，所述驱动件21的输出端用于驱动所述旋转件22转动； 加热组件，包括第一加热件31和第二加热件32，所述第一加热件31的第一端位于所述穿设孔221内，所述第一加热件31的第一端具有盘状加热区，用于加热所述衬底的中心区域，所述第一加热件31的第二端穿设所述真空腔室1的腔壁并固定于所述真空腔室1外；所述第二加热件32设置于所述衬底载盘23远离所述穿设孔221的一侧，所述第二加热件32的第一端位于所述真空腔室1内，所述第二加热件32的第一端具有环状加热区，用于加热所述衬底的外围区域，所述第二加热件32的第二端穿设所述真空腔室1的腔壁并固定于所述真空腔室1外。

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