无锡先为科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉无锡先为科技有限公司申请的专利一种成膜装置及CVD设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224172848U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202520833689.X，技术领域涉及：C23C16/44；该实用新型一种成膜装置及CVD设备是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2025-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种成膜装置及CVD设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种成膜装置及CVD设备，属于半导体技术领域，该成膜装置，包括：壳体，具有容纳腔以及与容纳腔连通的开口；反应容器，设置于容纳腔内，反应容器具有反应腔以及与反应腔连通的观测孔，观测孔将容纳腔与反应腔连通；观察组件，穿设于开口，且与壳体连接，观察组件包括观察窗及自开口向容纳腔内延伸的至少一个通孔，通孔沿第一方向延伸，观测孔及观察窗位于通孔的延伸路径上，并分别位于通孔的两侧，观察组件具有冷却通道，冷却通道用于冷却至少一个通孔的孔壁。通过冷却通道可以降低通孔内的温度，使得通孔的内部形成低温的环境，减小热对流对通孔内部光束的影响，降低环境的干扰，提高测量的精确性。
本实用新型一种成膜装置及CVD设备在权利要求书中公布了：1.一种成膜装置，其特征在于，包括： 壳体1，具有容纳腔10以及与所述容纳腔10连通的开口11； 反应容器2，设置于所述容纳腔10内，所述反应容器2具有反应腔20以及与所述反应腔20连通的观测孔21，所述观测孔21将所述容纳腔10与所述反应腔20连通； 观察组件3，穿设于所述开口11，且与所述壳体1连接，所述观察组件包括观察窗34及自所述开口11向所述容纳腔10内延伸的至少一个通孔30，所述通孔30沿第一方向X延伸，所述观测孔21及所述观察窗34位于所述通孔30的延伸路径上，并分别位于所述通孔30的两侧，所述观察组件3具有冷却通道31，所述冷却通道31用于冷却至少一个所述通孔30的孔壁。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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