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龙图腾网获悉天津朋通科技有限公司申请的专利一种磁控溅射工艺模块获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224172840U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521126749.0，技术领域涉及：C23C14/35；该实用新型一种磁控溅射工艺模块是由刘海东;杨雨设计研发完成，并于2025-06-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种磁控溅射工艺模块在说明书摘要公布了：本实用新型涉及一种磁控溅射工艺模块，特点为：真空腔由下腔体和上盖构成，内部形成封闭的溅射工艺腔；溅射装置包括磁控阴极、靶材和溅射电源；基片架系统包括多个基片托盘、基片支架、基片托盘和基片支架运动驱动机构，基片托盘和基片支架运动驱动机构为复合运动驱动机构；在上盖上设有一阴极安装法兰或以沿圆周方向布设有多个阴极安装法兰，每个阴极安装法兰处安装有一磁控阴极，靶材安装于磁控阴极的下端部，溅射电源与磁控阴极相连接；基片托盘和基片支架置于溅射工艺腔内磁控阴极的下方位置。本磁控溅射工艺模块可以利用较小尺寸的靶材完成在较大尺寸基片上镀膜工艺，且可获取膜厚的高均匀性、靶材的高利用率、磁控溅射工艺的多样性。

本实用新型一种磁控溅射工艺模块在权利要求书中公布了：1.一种磁控溅射工艺模块，包括高真空腔、溅射装置、基片架系统和气体供应装置；其特征在于：所述真空腔由下腔体和上盖构成，所述上盖密封扣盖于下腔体的上端，内部形成封闭的溅射工艺腔；在下腔体侧壁上设置有连接外部抽真空装置的接口及连接气体供应装置的进气接口；在下腔体的侧部设置有基片出入口，在基片出入口处安装有可开关的门阀； 所述溅射装置包括磁控阴极、靶材和溅射电源；所述基片架系统包括基片托盘、基片支架、基片托盘和基片支架运动驱动机构；所述基片托盘为多个，多个基片托盘以基片支架的中心为中心沿圆周方向布设；所述基片托盘和基片支架运动驱动机构为用于驱动基片支架带动基片托盘绕公转轴中心旋转同时驱动各个基片托盘绕各自的自转轴中心旋转的复合运动驱动机构； 在上盖上设置有一阴极安装法兰或以上盖中心为中心沿圆周方向布设有多个阴极安装法兰，每个阴极安装法兰处安装有一磁控阴极，所述靶材安装于磁控阴极的下端部，所述溅射电源与磁控阴极连接；基片托盘和基片支架置于溅射工艺腔内磁控阴极的下方位置；多个基片托盘与磁控阴极在基片支架的径向方向呈偏心设置。

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