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龙图腾网获悉深圳泰研半导体装备有限公司申请的专利一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121215542B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511390013.9，技术领域涉及：H10P74/00；该发明授权一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法是由方铭国设计研发完成，并于2025-09-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法在说明书摘要公布了：本发明涉及集成电路制造技术领域，公开了一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法，其中，一种等离子体刻蚀终点检测系统，包括：遮覆机构，用于覆盖等离子体刻蚀机的观察窗口；移动式光源发射机构；数据获取机构，数据获取机构用于获取移动式光源发射机构发射的光线的光谱信号或等离子体刻蚀过程产生的辉光与移动式光源发射机构发射的光线相叠加的光谱信号；平面移动机构；本发明隔绝外界环境光干扰因素，于等离子体刻蚀机内外分别设置可跟随射频单元同步移动的移动式光源发射机构和数据获取机构，可实时获取当前状态的等离子体的全光谱数据，从而辅助校准当前刻蚀是否到达刻蚀终点，有效的提高刻蚀终点检测数据的精准度，提高良品率。

本发明授权一种等离子体刻蚀终点检测系统及刻蚀终点检测方法在权利要求书中公布了：1.一种等离子体刻蚀终点检测系统，用于获取等离子体刻蚀机5的刻蚀终点数据，其特征在于，包括： 遮覆机构1，所述遮覆机构1包括若干个吸附式限位组件11以及连接在若干个吸附式限位组件11之间的柔性遮覆套12，若干个吸附式限位组件11可拆卸式连接在等离子体刻蚀机5上，柔性遮覆套12用于覆盖等离子体刻蚀机5的观察窗口； 移动式光源发射机构4，所述移动式光源发射机构4连接在等离子体刻蚀机5的内部，所述移动式光源发射机构4用于跟随等离子体刻蚀机5的射频单元于YOZ平面内同步移动并向射频单元处发射设定波长参数的光线； 数据获取机构3，所述数据获取机构3用于获取移动式光源发射机构4发射的光线的光谱信号或等离子体刻蚀过程产生的辉光与移动式光源发射机构4发射的光线相叠加的光谱信号； 平面移动机构2，所述平面移动机构2连接在数据获取机构3和遮覆机构1之间，所述平面移动机构2用于驱使数据获取机构3跟随移动式光源发射机构4于YOZ平面内同步移动。

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