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龙图腾网获悉中国科学院化学研究所;北京清玮膜科技有限公司申请的专利一种加成聚降冰片烯基阴离子交换离聚物及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121064399B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511170673.6，技术领域涉及：C08F232/08；该发明授权一种加成聚降冰片烯基阴离子交换离聚物及其制备方法和应用是由尤伟;肖玉冰;王婷;张海霞;熊辉;郭贺松;李想设计研发完成，并于2025-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种加成聚降冰片烯基阴离子交换离聚物及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明公开一种加成聚降冰片烯基阴离子交换离聚物及其制备方法和应用，本发明通过使用简单的水作为溶剂，并在水中加入水溶性的胺，可以在完成不溶于水的聚合物原料季铵化的同时提升原料分散性，且保证季铵化后的亲水型聚合物可以溶解于含有胺的水溶液中。之后通过减压蒸馏处理可以轻松除去多余的胺原料和溶剂水。本发明合成的季铵盐形式的加成聚降冰片烯基AEI的季铵化程度超过90％，可溶于低沸点溶剂，从而确保能够使用溶剂浇铸法制备膜电极。本发明的加成聚降冰片烯基阴离子交换离聚物的合成方法简单易操作，不使用有机溶剂，也无需复杂的沉降和离心操作，适用于规模化的放大生产。

本发明授权一种加成聚降冰片烯基阴离子交换离聚物及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种离聚物的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括以下步骤：将聚降冰片烯加成共聚物浸泡在叔胺的水溶液中，进行季铵化反应，反应至加成共聚物完全溶解得到澄清透明的溶液，得到所述离聚物； 所述叔胺选自N-甲基哌啶、N-甲基四氢吡咯、N-甲基吗啡林、N-乙基哌啶或选自具有如下式所示的结构的叔胺： ； 所述离聚物具有如下式Ⅰ~式III中的至少一种所示的结构： ； 其中： R1为-C1-10亚烷基-N+R5R6R7X-；X为卤素； R2选自H、C1-10烷基、C1-10亚烷基-X’、C6-14芳基、C2-10烯基中的一种；X’选自卤素； R3为C2-10烯基； R4选自H、C1-10烷基、C6-14芳基、C2-10烯基中的一种； m和n的比值为1:10~10:1； R5、R6和R7相同或不同、彼此独立地选自烷基链或环烷基，且R5、R6和R7的总碳原子数不超过10；或者R5、R6和R7相同或不同、彼此独立地选自含氧的烷基醚链。

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