浙江兆奕科技有限公司王增辉获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江兆奕科技有限公司申请的专利一种合成纹理制作工艺获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115239864B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210734782.6，技术领域涉及：G06T15/04；该发明授权一种合成纹理制作工艺是由王增辉;赵章林;顾正;邵宜健;许方威设计研发完成，并于2022-06-27向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种合成纹理制作工艺在说明书摘要公布了：本发明公开了一种合成纹理制作工艺，包括以下步骤：一微纳米纹理结构拼接、二激光直写光刻和三显影，与现有技术相比，能够规避和减弱摩尔纹的影响。
本发明授权一种合成纹理制作工艺在权利要求书中公布了：1.一种合成纹理制作工艺，其特征在于：包括以下步骤： 一微纳米纹理结构拼接 a纹理结构排布：采用六边形结构蜂巢排布方式，奇数排六边形里边排布纹理一效果的微纳米结构，偶数排六边形里边排布纹理二效果的微纳米结构； b角度计算修正：第一步根据六边形里面微纳米结构方向，提取其向量值；第二步，通过计算奇数排六边形里面微纳米结构与水平方向形成的1夹角与偶数排六边形里面微纳米结构与水平方向形成的2夹角之差，来求得相邻的奇数排与偶数排的相邻单元的向量夹角=1-2，奇数对应纹理一，偶数对应纹理二；第三步，根据人眼可识别最小尺寸W，带入摩尔纹宽度计算公式计算出最小夹角θmin值，并将第二步计算的相邻夹角向量夹角值与最小夹角θmin值进行比较，将θmin部分六边形筛选出来，此部分即是摩尔纹易产生部分，第四步，对筛选出来的六边形进行调整里面微纳米结构排布间距即a、b值大小，使得满足min； 二激光直写光刻： 选取微纳米结构设计深度相应厚度的光刻胶版，根据微纳米结构尺寸设定相应的激光光斑尺寸，曝光剂量；根据光刻胶版光照区域胶体成份分解的特性，激光刻蚀后胶版上形成溶解区和非溶解纹理结构区域； 三显影 通过显影液溶解洗去胶版上分解的胶体部分，未曝光光刻区域部分结构留下未被溶解，从而得到想要的纹理效果。
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