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龙图腾网获悉云谷(固安)科技有限公司申请的专利叠层结构、叠层结构制作方法及显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115206932B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210997729.5，技术领域涉及：H10W20/41；该发明授权叠层结构、叠层结构制作方法及显示面板是由李田生设计研发完成，并于2022-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。

本叠层结构、叠层结构制作方法及显示面板在说明书摘要公布了：本实施例提供的叠层结构、叠层结构制作方法及显示面板，涉及半导体技术领域。叠层结构中具有贯穿第一膜层和第二膜层的叠层过孔，第一膜层朝向叠层过孔的方向突伸超出第二膜层，第一膜层形成有台阶结构，且台阶结构与所述第二膜层朝向所述叠层过孔的边缘间隔设置。上述设计可以在第一膜层朝向叠层过孔的侧面形成两层台阶，叠层过孔的内壁可以形成一个倾斜面，金属走线可以在该叠层过孔的内壁上连续分布，确保搭接金属走线的良好连接。同时，第一膜层在叠层过孔的内壁形成的台阶还可以增大金属走线与叠层过孔的内壁接触的面积，提高金属走线与叠层过孔的内壁的粘连稳定性，确保电信号在金属走线中传输的稳定性，从而提高半导体器件的功能稳定性。

本发明授权叠层结构、叠层结构制作方法及显示面板在权利要求书中公布了：1.一种叠层结构制作方法，其特征在于，所述制作方法包括： 制作层叠在一起的第一膜层和第二膜层； 在所述第二膜层远离所述第一膜层的一侧制作一掩膜层，所述掩膜层包括第一台阶膜层以及位于所述第一台阶膜层上的第二台阶膜层，所述第一台阶膜层围合形成的第一掩膜开口，所述第二台阶膜层围合形成第二掩膜开口，所述第二掩膜开口大于第一掩膜开口； 通过所述第一掩膜开口对所述第一膜层和所述第二膜层进行第一次刻蚀，所述第一台阶膜层超出所述第二掩膜开口的部分在所述第一次刻蚀过程中同时去除，其中，所述第一膜层的纵向刻蚀速度大于所述第一膜层的横向刻蚀速度，所述第二膜层的纵向刻蚀速度大于所述第二膜层的横向刻蚀速度； 通过第二掩膜开口对所述第一膜层和所述第二膜层进行第二次刻蚀，得到叠层结构和贯穿所述第一膜层和所述第二膜层的叠层过孔，其中，所述第一膜层朝向所述叠层过孔的方向突伸超出所述第二膜层，且所述第一膜层形成有台阶结构，所述台阶结构与所述第二膜层朝向所述叠层过孔的边缘间隔设置，形成所述叠层过孔内壁的第二膜层的表面与靠近所述第一膜层的第二膜层的表面之间的夹角大于30°且小于65°；在所述叠层过孔内，所述第一膜层具有两层台阶，所述两层台阶的坡度角均大于30°且小于65°。

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