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龙图腾网获悉华科电子股份有限公司申请的专利一种应用于蚀刻机静电吸盘的控制方法及供电电源获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114068385B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-28发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111344220.2，技术领域涉及：H10P72/72；该发明授权一种应用于蚀刻机静电吸盘的控制方法及供电电源是由李佳设计研发完成，并于2021-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种应用于蚀刻机静电吸盘的控制方法及供电电源在说明书摘要公布了：本发明提供了一种应用于蚀刻机静电吸盘的控制方法及供电电源，根据晶圆的额定规格数据，进行晶圆电荷检测演示操作，预估晶圆承载负电荷的阈值；基于所述阈值，检测晶圆实际负电荷含量值，通过电荷量分析计算，获取晶圆负电荷产生的吸附力数据；根据所述吸附力数据，提取吸附力控制参数，基于所述吸附力控制参对静电吸盘的正电荷含量值进行调控，获取调控结果；根据所述调控结果，将静电吸盘的正电荷量与晶圆的负电荷量进行等量匹配，控制静电吸盘操作晶圆进行蚀刻作业，本发明可以控制静电吸盘吸附晶圆的从而完成精确的蚀刻工作，并且因为静电吸盘和晶圆之间适配的正负电荷进行紧密吸附可以保证蚀刻设备和操作人员的安全。

本发明授权一种应用于蚀刻机静电吸盘的控制方法及供电电源在权利要求书中公布了：1.一种应用于蚀刻机静电吸盘的控制方法，其特征在于，包括： 根据晶圆的额定规格数据，进行晶圆电荷检测演示操作，预估晶圆承载负电荷的阈值； 基于所述阈值，检测晶圆实际负电荷含量值，通过电荷量分析计算，获取晶圆负电荷产生的吸附力数据； 根据所述吸附力数据，提取吸附力控制参数，基于所述吸附力控制参数对静电吸盘的正电荷含量值进行调控，获取调控结果； 根据所述调控结果，将静电吸盘的正电荷量与晶圆的负电荷量进行等量匹配，控制静电吸盘操作晶圆进行蚀刻作业； 根据所述调控结果，将静电吸盘的正电荷量与晶圆的负电荷量进行等量匹配，控制静电吸盘操作晶圆进行蚀刻作业，包括： 获取静电吸盘吸附力和晶圆吸附力，制定静电吸盘和晶圆吸附力控制规则； 根据所述控制规则，对静电吸盘和晶圆进行吸附时的温度进行检测，并获取温度检测结果； 基于所述温度检测结果，对静电吸盘和晶圆进行调控处理，消除温度误差对静电吸盘和晶圆吸附力的影响； 通过对温度误差的消除，将静电吸盘的正电荷量与晶圆的负电荷量进行等量匹配，获取静电吸盘和晶圆准确的吸附力； 根据所述吸附力，控制静电吸盘操作晶圆进行蚀刻作业。

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