拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司李钦波获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利前级管路的压力检测装置及薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224163289U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521250988.7，技术领域涉及：G01L19/00；该实用新型前级管路的压力检测装置及薄膜沉积设备是由李钦波设计研发完成，并于2025-06-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本前级管路的压力检测装置及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种前级管路的压力检测装置及薄膜沉积设备，该装置包括：前级管路、安装管和真空规，所述安装管的第一端与所述真空规连接，所述安装管的第二端穿过所述前级管路的侧壁伸入到所述前级管路中；其中，所述安装管的第二端上设有进气口，所述进气口背向所述前级管路中气体的气流方向。本申请通过将真空规的安装管的进气口伸入到前级管路中并与气流方向呈背向设置，可以减少前级管路内的粉尘或气体副产物拐弯进入到安装管内部，从而避免造成真空规堵塞或零点漂移，提高了真空规的检测精度和使用寿命。
本实用新型前级管路的压力检测装置及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种前级管路的压力检测装置，其特征在于，包括：前级管路、安装管和真空规，所述安装管的第一端与所述真空规连接，所述安装管的第二端穿过所述前级管路的侧壁伸入到所述前级管路中； 其中，所述安装管的第二端上设有进气口，所述进气口背向所述前级管路中气体的气流方向。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司，其通讯地址为：110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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