华芯程(杭州)科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉华芯程(杭州)科技有限公司申请的专利形貌感知光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121457407B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610014362.9，技术领域涉及：G06F30/3308；该发明授权形貌感知光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备是由请求不公布姓名设计研发完成，并于2026-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本形貌感知光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种形貌感知光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备，其中，该形貌感知光学邻近效应修正方法包括获取原始设计版图；对原始设计版图进行CMP仿真，生成晶圆形貌数据；基于EUV三维掩模模型和晶圆形貌数据构建耦合光学模型；根据多重图形化工艺规则对设计版图进行布局分解，得到至少两个掩模版图；采用耦合光学模型对至少两个掩模版图进行协同形貌感知光学邻近效应修正，得到至少两个修正后的掩模版图；其中，对当前掩模版图进行修正时，所采用的光学邻近环境包括基于耦合光学模型生成的历史掩模修正结果。本申请可以提高先进工艺节点的成像精度。
本发明授权形貌感知光学邻近效应修正方法、装置、存储介质及电子设备在权利要求书中公布了：1.一种形貌感知光学邻近效应修正方法，其特征在于，包括： 获取原始设计版图； 对所述原始设计版图进行CMP仿真，生成晶圆形貌数据； 将所述晶圆形貌数据映射为空间变化的离焦量分布； 将所述离焦量分布与基于EUV三维掩模模型所表征的阴影效应，统一集成至光刻成像模型中，以形成耦合光学模型； 根据多重图形化工艺规则对所述设计版图进行布局分解，得到至少两个掩模版图； 采用所述耦合光学模型对至少两个所述掩模版图进行协同形貌感知光学邻近效应修正，得到至少两个修正后的掩模版图；其中，对当前掩模版图进行修正时，所采用的光学邻近环境包括基于所述耦合光学模型生成的历史掩模修正结果。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华芯程(杭州)科技有限公司，其通讯地址为：310000 浙江省杭州市余杭区良渚街道网周路99号1幢22层2208室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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