拓荆科技(上海)有限公司孙萌萌获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉拓荆科技(上海)有限公司申请的专利用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119392218B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411785428.1，技术领域涉及：C23C16/455；该发明授权用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备是由孙萌萌;冯嘉恒;刘英明;赵郁晗;潘英豪设计研发完成，并于2024-12-05向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备在说明书摘要公布了：本发明提供了用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备。所述扩散器包括进气通道和扩散本体。所述扩散本体包括斜面腔室以及多个流气通道；所述斜面腔室的中央顶部连通所述进气通道，所述斜面腔室具有由第一斜面和第二斜面组成的顶部轮廓以及由第三斜面和第四斜面组成的底部轮廓，顶部轮廓和底部轮廓形成中央空间大、边缘空间小的内部空间；每个流气通道的进气口与所述斜面腔室的底部轮廓连通，各流气通道的长度呈从中间向边缘两侧逐步递减的排布。
本发明授权用于横流结构的扩散器以及半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种用于横流结构的扩散器，其特征在于，包括：进气通道和扩散本体； 所述扩散本体包括斜面腔室以及多个流气通道； 所述斜面腔室的中央顶部连通所述进气通道，所述斜面腔室具有由第一斜面和第二斜面组成的顶部轮廓以及由第三斜面和第四斜面组成的底部轮廓，顶部轮廓和底部轮廓形成中央空间大、边缘空间小的内部空间； 每个流气通道的进气口与所述斜面腔室的底部轮廓连通，各流气通道的长度呈从中间向边缘两侧逐步递减的排布； 其中，每个所述流气通道具有第一段和第二段，其中所述第一段的孔径小于所述第二段的孔径，所述第一段的一端连接所述流气通道的进气口，所述第二段的一端连接所述流气通道的出气口，所述第一段的另一端和所述第二段的另一端连接。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆科技(上海)有限公司，其通讯地址为：201306 上海市浦东新区中国(上海)自由贸易试验区临港新片区鸿音路1211号10幢304室；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励