海南大学衣雪松获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾,真高效! 查专利查商标用IPTOP,全免费!专利年费监控用IP管家,真方便!
龙图腾网获悉海南大学申请的专利一种激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117258563B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311282712.2,技术领域涉及:B01D71/34;该发明授权一种激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜及其制备方法是由衣雪松;陈俣良;巴立波;刘一江;吴玉梁;黄薇薇;杨飞设计研发完成,并于2023-09-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提出了一种激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜及其制备方法,包括将聚偏氟乙烯与有机碱反应引入共轭双键,得改性聚偏氟乙烯;分别将改性聚偏氟乙烯、羧基化氧化石墨烯粉末、催化剂、塑化剂和致孔剂加入二甲基乙酰胺溶液中,混匀,得复合基膜铸膜液,加入醇‑水溶液进行相转化,得改性聚偏氟乙烯超滤膜,进行激光蚀刻,将激光蚀刻改性聚偏氟乙烯超滤膜浸没至亲水性溶液中,和或在激光蚀刻改性聚偏氟乙烯超滤膜表面喷涂亲水性聚合物,得目标超滤膜。本发明相较于现有技术,通过激光蚀刻PVDF超滤膜制备方法在亲水性改善、分离效率提高、稳定性增加、能耗降低以及环保可持续等方面具有明显的有益效果,为膜分离技术领域带来了显著的创新和进步。
本发明授权一种激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜的制备方法,其特征在于,包括如下制备步骤: S1制备改性PVDF:将聚偏氟乙烯与有机碱反应引入共轭双键,得改性聚偏氟乙烯; S2制备复合基膜铸膜液:分别将改性聚偏氟乙烯、羧基化氧化石墨烯粉末、催化剂、塑化剂和致孔剂加入二甲基乙酰胺溶液中,混匀,得复合基膜铸膜液; S3制备PVDF超滤膜:将复合基膜铸膜液加入醇-水溶液进行相转化,得改性聚偏氟乙烯超滤膜; S4激光蚀刻:将改性聚偏氟乙烯超滤膜表面进行激光蚀刻,激光波长为15~35nm,扫描速度为50~80mms,得激光蚀刻改性聚偏氟乙烯超滤膜; S5亲水性改善:将激光蚀刻改性聚偏氟乙烯超滤膜浸没至亲水性溶液中,和或在激光蚀刻改性聚偏氟乙烯超滤膜表面喷涂亲水性聚合物,得激光蚀刻PVDF微纳米结构超滤膜; 步骤S2中,所述改性聚偏氟乙烯、羧基化氧化石墨烯粉末、催化剂、塑化剂和致孔剂的质量比为10~15:5~8:5~10:5~9:71~81; 所述催化剂包括3-氨丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷或乙烯基三硅烷中的至少一种。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人海南大学,其通讯地址为:570228 海南省海口市美兰区人民大道58号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议,有机会获取IP积分或其他奖励