日产化学株式会社岸冈高广获国家专利权
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龙图腾网获悉日产化学株式会社申请的专利异物除去用涂膜形成用组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116034453B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180049745.5，技术领域涉及：H10P54/94；该发明授权异物除去用涂膜形成用组合物是由岸冈高广;臼井友辉;森谷俊介设计研发完成，并于2021-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本异物除去用涂膜形成用组合物在说明书摘要公布了：提供在半导体装置制造工序中用于将形成在基板上的异物除去的简便的方法，并提供那样的方法所使用的异物除去用涂膜形成用组合物。一种组合物，是包含聚合物和溶剂、能够形成溶解于显影液的涂膜的异物除去用涂膜形成用组合物，上述聚合物选自苯酚酚醛清漆、聚羟基苯乙烯衍生物和含有羧酸的聚合物，所述组合物包含相对于组合物中的固体成分整体为50质量％以上的上述聚合物。
本发明授权异物除去用涂膜形成用组合物在权利要求书中公布了：1.一种组合物，是包含聚合物和溶剂、并且能够形成溶解于显影液的涂膜的异物除去用涂膜形成用组合物， 所述聚合物选自含有酚性羟基的聚合物和含有羧基的聚合物，所述组合物包含相对于组合物中的固体成分整体为50质量%以上的所述聚合物， 所述含有酚性羟基的聚合物为苯酚酚醛清漆或聚羟基苯乙烯衍生物， 所述含有羧基的聚合物选自甲基丙烯酸系树脂、聚乙烯基苯甲酸和羧基甲基纤维素。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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