ASML控股股份有限公司乔·特兰乔获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML控股股份有限公司申请的专利光学设备和使用所述光学设备的光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115335774B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180022850.X，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光学设备和使用所述光学设备的光刻设备是由乔·特兰乔;威廉·皮尔斯·查宾;瑞恩·理查德·韦斯特弗;杰拉德·W·麦克杜姆;爱德华·霍顿设计研发完成，并于2021-03-16向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学设备和使用所述光学设备的光刻设备在说明书摘要公布了：本文中描述了一种光学元件和一种包括所述光学元件的光刻设备。所述光学设备包括：基板，所述基板具有用于使光通过的孔；透射型光学元件，所述透射型光学元件覆盖所述基板的所述孔；以及光学接触结合部，所述光学接触结合部位于所述基板与透射型光学元件之间，所述光学接触结合部与所述孔间隔开足够的距离，使得所述透射型光学元件中的从所述光学接触结合部到所述孔的应力低于可接受的应力阈值。在本文中，所述光学接触结合部几何形状例如最小化接触面积并提供所述基板与所述光学元件之间的准运动学的几乎精确约束的界面。
本发明授权光学设备和使用所述光学设备的光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种光学设备，包括： 基板，所述基板具有用于使光通过的孔； 透射型光学元件，所述透射型光学元件覆盖所述基板的所述孔；以及 光学接触结合部，所述光学接触结合部位于所述基板与透射型光学元件之间，所述光学接触结合部与所述孔间隔开足够的距离，使得所述透射型光学元件中的从所述光学接触结合部到所述孔的应力低于可接受的应力阈值，其中，所述光学接触结合部被形成在所述基板的选定部位处，所述选定部位是所述基板的至少三个凸起部分，所述至少三个凸起部分形成凸起表面，在所述选定部位处的被减小的面积上执行所述凸起表面的掩蔽。
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