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龙图腾网获悉依赛彼集团公司申请的专利用于操作等离子体喷炬的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114902814B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080091535.8，技术领域涉及：H05H1/32；该发明授权用于操作等离子体喷炬的方法是由瑞恩·T·林纳;杰弗里·普特南;克里斯托弗·文森特·布拉迪斯·SR设计研发完成，并于2020-12-15向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于操作等离子体喷炬的方法在说明书摘要公布了：一种用于使用等离子体喷炬刺穿和切割工件的方法，等离子体喷炬具有电极和喷嘴，喷嘴与电极的远端部分间隔开并且围绕电极的远端部分，以形成工艺气体流动通道。根据一种实施方式，该方法包括以第一压力输送等离子气通过喷炬的工艺气体流动通道，同时电离等离子气以产生在电极与工件之间延伸的等离子体电弧。当在第一压力下输送等离子气时，通过使用等离子体电弧在工件中产生穿孔来执行刺穿操作。在所述刺穿操作之后，以低于所述第一压力的第二压力输送所述等离子气通过所述工艺气体流动通道来执行切割操作，并且在所述等离子气以所述第二压力输送的情况下，在所述工件中形成切口，切口起始于所述穿孔的边界且远离所述穿孔的边界延伸。

本发明授权用于操作等离子体喷炬的方法在权利要求书中公布了：1.一种使用等离子体喷炬刺穿和切割工件的方法，所述等离子体喷炬包括电极和喷嘴，所述喷嘴与所述电极的远端部分间隔开并围绕所述电极的远端部分，以形成工艺气体流动通道，所述等离子体喷炬包括保护罩，所述保护罩与所述喷嘴的远端部分间隔开并围绕所述喷嘴的远端部分以形成保护气流动通道，所述方法包括： 以第一压力输送等离子气通过所述工艺气体流动通道，同时电离所述等离子气以产生在所述电极与所述工件之间延伸的等离子体电弧； 通过使用所述等离子体电弧在所述工件中产生穿孔来执行刺穿操作； 在所述刺穿操作期间以第三压力输送保护气通过所述保护气流动通道，在整个所述刺穿操作期间所述保护气维持在所述第三压力； 在所述刺穿操作之后， 将所述等离子气体的压力从所述第一压力调整至低于所述第一压力的第二压力，所述第一压力比所述第二压力大10%至50%，将所述等离子气体的压力从所述第一压力调整至所述第二压力涉及对所述等离子气体的压力进行调整，使得所述等离子气体的压力从所述第一压力线性地斜降至第二压力；以及 以所述第二压力输送所述等离子气通过所述工艺气体流动通道来执行切割操作，并且在所述等离子气以所述第二压力输送的情况下，在所述工件中形成切口，所述切口起始于所述穿孔的边界并远离所述穿孔的边界延伸，在所述切割操作期间以第四压力输送所述保护气通过所述保护气流动通道，所述第三压力大于所述第四压力。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人依赛彼集团公司，其通讯地址为：美国马里兰；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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