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龙图腾网获悉LG伊诺特有限公司申请的专利用于制造有机发光二极管沉积掩模的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114899345B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210426815.0，技术领域涉及：H10K71/10；该发明授权用于制造有机发光二极管沉积掩模的方法是由白智钦;金海植;曹荣得;李相侑;曹守铉;孙晓源设计研发完成，并于2018-08-24向国家知识产权局提交的专利申请。

本用于制造有机发光二极管沉积掩模的方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于制造有机发光二极管沉积掩模的方法，该方法包括：准备已经被轧制和退火的具有30μm或更大的厚度的金属板；将金属板蚀刻成具有在15μm至25μm的范围内的厚度；以及在金属板上形成多个通孔，通孔包括多个小表面孔和多个大表面孔，其中，金属板的蚀刻包括：蚀刻经轧制和退火的金属板的一个或两个表面，使得金属板的第一表面或第二表面的在纵向方向上的平均中心线平均表面粗糙度、在侧向方向上的平均中心线平均表面粗糙度和在对角线方向上的平均中心线平均表面粗糙度中的每一者为0.1μm至0.3μm，其中，纵向方向是金属板的轧制方向，侧向方向是垂直于金属板的轧制方向的方向，对角线方向是纵向方向与侧向方向之间的+45度方向或‑45度方向。

本发明授权用于制造有机发光二极管沉积掩模的方法在权利要求书中公布了：1.一种用于制造有机发光二极管沉积掩模的方法，包括： 准备已经被轧制和退火的金属板，所述金属板具有30μm或更大的厚度， 将所述金属板蚀刻成具有在15μm至25μm的范围内的厚度，所述金属板包括第一表面和与所述第一表面相反的第二表面；以及 在所述金属板上形成多个通孔和岛状部分，所述通孔包括从所述第一表面沿深度方向的多个小表面孔和从所述第二表面沿深度方向与所述小表面孔连通的多个大表面孔，所述岛状部分在所述第二表面上位于多个所述大表面孔之间， 其中，所述金属板的蚀刻包括： 蚀刻经轧制和退火的所述金属板的一个或两个表面，使得所述金属板的第一表面或第二表面的在纵向方向上的平均中心线平均表面粗糙度、在侧向方向上的平均中心线平均表面粗糙度和在对角线方向上的平均中心线平均表面粗糙度中的每一者为0.1μm至0.3μm， 其中，所述纵向方向是所述金属板的轧制方向， 其中，所述侧向方向是垂直于所述金属板的所述轧制方向的方向，并且 其中，所述对角线方向是所述纵向方向与所述侧向方向之间的+45度方向或-45度方向。

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