ASML荷兰有限公司S·德德亚获国家专利权
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龙图腾网获悉ASML荷兰有限公司申请的专利用于光学系统的抑制剂物质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114747298B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080082603.4，技术领域涉及：H05G2/00；该发明授权用于光学系统的抑制剂物质是由S·德德亚;马悦;A·D·拉弗格设计研发完成，并于2020-10-29向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光学系统的抑制剂物质在说明书摘要公布了：一种极紫外EUV光源，包括：容器，被配置为接收靶材料，该靶材料在处于等离子体态时发射EUV光；输送系统，被配置为将自由基输送到容器的内部；物体，在容器的内部中；以及抑制剂物质。在操作使用中，物体积聚包括靶材料的碎屑，自由基与碎屑中的至少一些碎屑反应以从物体去除碎屑，并且抑制剂物质抑制自由基在物体上的复合。
本发明授权用于光学系统的抑制剂物质在权利要求书中公布了：1.一种极紫外EUV光源，包括： 容器，被配置为接收靶材料，所述靶材料在处于等离子体态时发射EUV光； 输送系统，被配置为将自由基输送到所述容器的内部； 物体，在所述容器的内部中；以及 抑制剂物质，其中，在操作使用中，所述物体积聚碎屑，所述碎屑包括所述靶材料，所述自由基与所述碎屑中的至少一些碎屑反应以从所述物体去除所述碎屑，并且所述抑制剂物质抑制所述自由基在所述物体上的复合， 其中所述抑制剂物质包括气相抑制剂物质。
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