株式会社东金幕田裕和获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉株式会社东金申请的专利稀土钴永磁体、其制造方法和装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113205935B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-24发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110088593.1，技术领域涉及：H01F1/055；该发明授权稀土钴永磁体、其制造方法和装置是由幕田裕和;町田浩明;藤原照彦;金森悠设计研发完成，并于2021-01-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本稀土钴永磁体、其制造方法和装置在说明书摘要公布了：提供了具有优异磁特性的稀土钴永磁体、这种稀土钴永磁体的制造方法以及装置。稀土钴永磁体由以下成分组成：23至27质量％的R、1.0至5.0质量％的Cu、18至25质量％的Fe、1.5至3.0质量％的Zr和作为余量的Co以及不可避免的杂质，R表示至少包括Sm的稀土元素，其中稀土钴永磁体包含多个晶粒和晶界部分，并且在晶界部分中，Cu的浓度至少为Zr的浓度的两倍。
本发明授权稀土钴永磁体、其制造方法和装置在权利要求书中公布了：1.一种稀土钴永磁体，其由以下成分组成：23至27质量%的R、1.0至5.0质量%的Cu、18至21.55质量%的Fe、1.5至2.2质量%的Zr和作为余量的Co以及不可避免的杂质，R表示至少包括Sm的稀土元素，其中 所述稀土钴永磁体包含多个晶粒和晶界部分， 在所述晶界部分中，Cu的浓度至少为Zr的浓度的三倍， 其中本征矫顽力Hcj为240kAm至4.1×1034πkAm，并且 其中表示剩余磁化强度为90%时的磁场Hk与本征矫顽力Hcj之比HkHcj的矩形比在退磁曲线中等于或高于60%，并且 当所述稀土钴永磁体从超过退磁曲线中的拐点的退磁场中重新磁化时，在等于或弱于本征矫顽力Hcj五倍的磁场中获得等于或高于95%的饱和磁化强度的磁化强度，并且 其中构成晶粒的晶胞结构的尺寸为50nm至200nm。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人株式会社东金，其通讯地址为：日本宫城县；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励