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龙图腾网获悉武汉超宇测控技术有限公司申请的专利一种扫描式薄膜测厚装置获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN224151682U 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202521042848.0，技术领域涉及：G01B15/02；该实用新型一种扫描式薄膜测厚装置是由谢百超;魏良力;唐巍设计研发完成，并于2025-05-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种扫描式薄膜测厚装置在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种扫描式薄膜测厚装置，属于测厚仪技术领域。包括机架、下探头、上探头、同步驱动结构、两根横梁和两根支撑辊；上探头和下探头上下相对设置，其分别位于薄膜的相邻上方与相邻下方，其分别滑动设于两根横梁上；同步驱动结构用于让下探头和上探头同步地左右向运动；两根支撑辊分别设于机架的前后两侧，其能上下调整地设于机架上，其分别位于下探头上部的相邻前方和相邻后方；上探头和下探头分别为X射线接收探头和X射线发射探头且其之间的距离为10‑20mm；下探头前后两侧由上至下逐渐靠近，其左侧或右侧设有电源接口、数据接口和散热空气入口，其另一侧设有排气孔；散热空气入口通过气管与压缩空气供应装置连接。

本实用新型一种扫描式薄膜测厚装置在权利要求书中公布了：1.一种扫描式薄膜测厚装置，包括机架1、下探头2、上探头3、同步驱动结构和上下并排设置的两根横梁9，所述横梁9沿左右向设置且其两端设于机架1上；所述上探头3和下探头2上下相对设置，其分别位于薄膜的相邻上方与相邻下方，其分别滑动设于两根横梁9上；所述同步驱动结构用于让下探头2和上探头3同步地左右向运动；其特征在于， 该装置还包括前后并排设置且位于薄膜下侧的两根支撑辊4；两根支撑辊4分别设于机架1的前后两侧，其能上下调整地设于机架1上，其分别位于下探头2上部的相邻前方和相邻后方，其均沿左右向设置；所述上探头3和下探头2分别为X射线接收探头和X射线发射探头且其之间的距离为10-20mm；所述下探头2前后两侧由上至下逐渐靠近，其左侧或右侧设有电源接口10、数据接口11和散热空气入口12，其另一侧设有排气孔；所述散热空气入口12通过气管与压缩空气供应装置连接。

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