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龙图腾网获悉清华大学申请的专利基于宽谱测量基的光谱调制微结构筛选方法、装置、设备、介质、程序产品及计算光谱成像与光谱分析系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121677932B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202610196851.0，技术领域涉及：G01J3/28；该发明授权基于宽谱测量基的光谱调制微结构筛选方法、装置、设备、介质、程序产品及计算光谱成像与光谱分析系统是由黄翊东;崔开宇;刘天昊;刘仿;冯雪;张巍;李永卓;孙皓设计研发完成，并于2026-02-11向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于宽谱测量基的光谱调制微结构筛选方法、装置、设备、介质、程序产品及计算光谱成像与光谱分析系统在说明书摘要公布了：本发明提供一种基于宽谱测量基的光谱调制微结构筛选方法、装置、设备、介质、程序产品及计算光谱成像与光谱分析系统，涉及光学技术领域，方法包括：获取多个候选光谱调制微结构的透射谱；基于光谱应用场景确定稀疏矩阵；基于稀疏矩阵和多个候选光谱调制微结构的透射谱，根据目标函数进行逆向设计，迭代筛选出至少一个目标光谱调制微结构，作为最优光谱调制微结构组合；逆向设计的过程以最小化目标函数为目标，目标函数是基于传感矩阵的最大列相干性确定的，传感矩阵是基于稀疏矩阵确定的。通过上述方式，可使得最优光谱调制微结构组合具备针对特定光谱应用场景的任务适应性，有利于保障系统在光谱应用场景中的光谱重建性能和光谱特征提取性能。

本发明授权基于宽谱测量基的光谱调制微结构筛选方法、装置、设备、介质、程序产品及计算光谱成像与光谱分析系统在权利要求书中公布了：1.一种基于宽谱测量基的光谱调制微结构筛选方法，其特征在于，包括： 获取多个候选光谱调制微结构的透射谱； 基于光谱应用场景，确定稀疏矩阵；所述稀疏矩阵用于表征与所述光谱应用场景相关的光谱先验信息； 基于所述稀疏矩阵和多个所述候选光谱调制微结构的所述透射谱，根据目标函数进行逆向设计，从多个所述候选光谱调制微结构中迭代筛选出至少一个目标光谱调制微结构，作为最优光谱调制微结构组合； 其中，所述逆向设计的过程以最小化所述目标函数为目标，所述目标函数是基于传感矩阵的最大列相干性确定的，所述传感矩阵是基于所述稀疏矩阵确定的； 所述目标函数是基于以下步骤确定的： 确定测量矩阵；所述测量矩阵是基于多个所述候选光谱调制微结构的所述透射谱构建的； 基于所述测量矩阵和所述稀疏矩阵，确定所述传感矩阵；所述传感矩阵包括多个列，一个所述列表示一个宽谱测量基； 基于所述传感矩阵的每一所述宽谱测量基，确定所述目标函数； 其中，所述目标函数是基于所述传感矩阵中各个所述宽谱测量基之间的最大列相干性确定的。

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