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龙图腾网获悉拓亚半导体科技(云南)有限公司申请的专利基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121215545B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-21发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511512219.4，技术领域涉及：H10P74/20；该发明授权基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统是由敖秋意;秦传明;代明号;程冰冰;龚炳仁设计研发完成，并于2025-10-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统在说明书摘要公布了：本发明提供基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统，应用于芯片设计和制程优化领域，系统包括偏振光源模块、晶圆处理模块、多通道光学系统、偏振相位处理模块、数据采集和处理模块及结果可视化模块，其核心创新在于将微分几何理论应用于偏振相位信息处理，通过偏振态流形构建单元将偏振态参数映射到Poincaré球面，计算流形上的局部度量张量；应力－相位映射单元计算联络系数和曲率张量，确定应力分布；多尺度分析单元构建偏振态流形的尺度空间，实现从微观到宏观的应力分布无缝分析，显著提高了应力测量精度和空间分辨率，可同时分析微米和毫米尺度的应力分布。

本发明授权基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统在权利要求书中公布了：1.基于偏振光成像的半导体晶圆应力分布测量系统，其特征在于，包括： 偏振光源模块，用于发射具有可控偏振态的光束； 晶圆处理模块，用于制备半导体晶圆样品，使该样品具有单晶面； 多通道光学系统，与所述偏振光源模块连接，用于将所述偏振光源模块发射的光束照明至所述晶圆处理模块制备的样品表面，并捕获样品表面产生的光场信息，获得多通道偏振图像； 偏振相位处理模块，与所述多通道光学系统连接，用于接收所述多通道光学系统获取的多通道偏振图像，将偏振相位信息映射至偏振态流形，计算偏振态流形上的几何特征，并基于所述几何特征提取样品的应力分布信息； 其中，所述偏振相位处理模块包括偏振态流形构建单元、应力-相位映射单元和多尺度分析单元； 所述偏振态流形构建单元用于将所述多通道偏振图像中的偏振态参数映射到表示二维流形的Poincaré球面上，计算所述流形上的局部度量张量，构建偏振态空间的几何表征； 所述应力-相位映射单元用于计算所述流形上的联络系数和曲率张量，基于联络场与曲率特性确定样品的应力张量分布； 所述多尺度分析单元用于在不同尺度参数下构建偏振态流形的尺度空间，跟踪特征点在尺度空间中的演化轨迹，融合多尺度特征信息，实现从微观到宏观的应力分布无缝分析。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓亚半导体科技(云南)有限公司，其通讯地址为：650000 云南省昆明市盘龙区拓东路20号云上数字赋能产业园2-A号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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