成都迪恩特科光电科技有限公司李文龙获国家专利权
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龙图腾网获悉成都迪恩特科光电科技有限公司申请的专利一种应用在极紫外或软X射线光斑探测的系统和方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN121057371B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511161299.3，技术领域涉及：H10F77/60；该发明授权一种应用在极紫外或软X射线光斑探测的系统和方法是由李文龙;胡晓丽设计研发完成，并于2025-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种应用在极紫外或软X射线光斑探测的系统和方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种应用在极紫外或软X射线光斑探测的系统和方法，包括：光斑探测模块，设置于真空腔体内，包含双层闪烁晶体和热沉装置，双层闪烁晶体包括第一层闪烁晶体和第二层闪烁晶体；第二层闪烁晶体设置在第一层闪烁晶体和热沉装置之间；双层闪烁晶体以镀膜工艺键合在热沉装置的表面，热沉装置的键合面称为键合表面。本发明的晶体是以镀膜方式键合在热沉装置上，区别于采用光胶铟锡焊料等物质键合方式以及直接冷却晶体的方式，该方式能够较好的减小热阻，提高晶体散热效率，降低晶体的温度，大大减小了晶体从热沉脱落或炸裂等机率；凭借热沉硬度高等优点，提升了探测装置的安全可靠性，特别是在价格比较昂贵的真空装置中。
本发明授权一种应用在极紫外或软X射线光斑探测的系统和方法在权利要求书中公布了：1.一种应用在极紫外或软X射线光斑探测的系统，其特征在于，包括： 光斑探测模块，设置于真空腔体内，包含双层闪烁晶体和热沉装置，双层闪烁晶体包括第一层闪烁晶体和第二层闪烁晶体；第二层闪烁晶体设置在第一层闪烁晶体和热沉装置之间； 双层闪烁晶体以镀膜工艺键合在热沉装置的表面，热沉装置的键合面称为键合表面； 闪烁晶体通过镀膜键合于热沉表面，用于将极紫外或软X射线激发产生的荧光信号通过闪烁晶体转换，以便CCD相机检测，并设有Au过渡层，通过降低界面热应力提升键合附着力； 所述Au过渡层设置如下： 采用Cr底电极层、Au过渡层、Sn焊接层三层结构；通过真空退火工艺消除界面应力，退火参数：800-1500℃，2-5小时，使键合附着力测试脱落面积＜5%。
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