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龙图腾网获悉西安工业大学申请的专利一种基于环带重构微分的多阶衍射透镜制造误差分析方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119916515B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411704958.9，技术领域涉及：G02B5/18；该发明授权一种基于环带重构微分的多阶衍射透镜制造误差分析方法是由葛少博;刘卫国;沈陆俊设计研发完成，并于2024-11-26向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种基于环带重构微分的多阶衍射透镜制造误差分析方法在说明书摘要公布了：本发明属于多阶衍射透镜加工领域，具体涉及一种基于环带重构微分的多阶衍射透镜制造误差分析方法。方法包括：首先针对MDL存在加工导致的形貌误差类型，构建误差函数ε；之后基于所构建的误差函数ε，得到MDL误差高度分布矩阵hij；然后计算MDL在焦平面位置的衍射光场；最后计算MDL在误差影响下的光学性能指标，包含相对焦点位置偏移及相对聚焦效率损失。本发明能够有效针对MDL制造过程中形成的复杂形貌误差进行光学性能相关的分析；能够通过理论计算与仿真模拟的方式对MDL在制造误差影响下光学性能损失的变化趋势及区间进行准确分析；对MDL在任意误差形貌下的光学性能分析工作具有高适用性及准确性；本发明便于改进工艺，实用性强。

本发明授权一种基于环带重构微分的多阶衍射透镜制造误差分析方法在权利要求书中公布了：1.一种基于环带重构微分的多阶衍射透镜制造误差分析方法，其特征在于：包括以下步骤： 步骤一、针对多阶衍射透镜存在加工导致的形貌误差类型，构建误差函数ε： 步骤二、基于所构建的误差函数ε，得到误差高度分布hij 步骤三、计算误差影响下多阶衍射透镜在焦平面处的衍射光场： 步骤四、计算多阶衍射透镜在误差影响下的光学性能指标； 所述步骤一中，采用非线性回归模型进行误差函数ε的构建： 式2中，e为凹陷因子，单个圆环最大凹陷程度Δh＝h×e,j为微分子圆环个数p的索引值，即p＝1,2,3,…,j；子圆环宽度为w＝wp，h理想台阶高度分布矩阵；w为各个圆环宽度； 所述步骤四中，平均焦点位置被定义为轴向z轴光强最大值Iz对应坐标的平均值： 其中，n为工作波长总数； 较理论值的相对偏移率为： 平均聚焦效率被定义为焦平面艾里斑区域内光功率与多阶衍射透镜孔径范围内光功率比值的均值： 其中：n为工作波长总数； 较理论值的相对偏移率为：

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