松山湖材料实验室尚俊峰获国家专利权
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龙图腾网获悉松山湖材料实验室申请的专利一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118183724B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410328730.8，技术领域涉及：C01B32/194；该发明授权一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法和应用是由尚俊峰;刘科海;任云龙;邵乾宏;林智君;郑跃滨;刘开辉;王恩哥设计研发完成，并于2024-03-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法和应用在说明书摘要公布了：本发明属于悬空石墨烯薄膜材料技术领域，具体涉及一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法和应用。该方法包括如下步骤：S1，将带生长衬底的石墨烯置于刻蚀液中，刻蚀除去生长衬底，得到浮于刻蚀液表面的石墨烯薄膜；S2，将刻蚀液置换为清水，将清水置换为不同张力溶液；S3，将不同张力溶液排空，使石墨烯薄膜贴附在目标基底上，得到不同张力的石墨烯薄膜；S4，数据处理，得到悬空石墨烯薄膜张力与溶液张力的关系曲线；S5，根据上述关系曲线，通过步骤S1～步骤S3实现对悬空石墨烯薄膜张力的调控。本发明方法可利用不同张力溶液对湿法转移的悬空石墨烯薄膜张力实现有效调控，填补了技术空白。
本发明授权一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种调控悬空石墨烯薄膜张力的方法，其特征在于，包括如下步骤： S1，将带生长衬底的石墨烯置于刻蚀液中，刻蚀除去生长衬底，得到浮于刻蚀液表面的石墨烯薄膜； S2，将刻蚀液置换为清水，将清水置换为不同张力溶液； S3，将不同张力溶液排空，使石墨烯薄膜贴附在目标基底上，得到不同张力的悬空石墨烯薄膜； S4，数据处理，得到悬空石墨烯薄膜张力与溶液张力的关系曲线； S5，根据上述关系曲线，通过步骤S1～步骤S3实现对悬空石墨烯薄膜张力的调控。
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