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龙图腾网获悉中芯国际集成电路制造(上海)有限公司申请的专利光学邻近修正方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117471841B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210855439.7，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权光学邻近修正方法是由严中稳;王晨;张戈设计研发完成，并于2022-07-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学邻近修正方法在说明书摘要公布了：一种光学邻近修正方法，包括：获取第一修正版图，第一修正版图中包括第一修正图形和第二修正图形，第一修正图形包括第一修正边和第二修正边，第二修正图形包括第三修正边，第三修正边与第一修正边之间具有第一间距尺寸，且第一间距尺寸等于掩膜规则尺寸；获取第一曝光版图，第一曝光版图包括第一曝光图形和第二曝光图形；提供目标版图，目标版图包括第一目标图形；获取第一曝光图形与第一目标图形之间的第一边缘放置误差；对第一修正版图进行若干次光学邻近修正，若干次光学邻近修正用于平移第一修正边和第二修正边以使得第一边缘放置误差位于预设边缘放置误差范围，以及平移第三修正边以增大第二间距至大于预设间距尺寸，能够有效提升修正精度。

本发明授权光学邻近修正方法在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，包括： 获取第一修正版图，所述第一修正版图中包括第一修正图形和第二修正图形，所述第一修正图形包括第一修正边、以及与所述第一修正边相垂直的第二修正边，所述第二修正图形包括相对的第三修正边和第四修正边，所述第三修正边与所述第一修正边相邻且平行，所述第三修正边与所述第一修正边之间具有第一间距尺寸，且所述第一间距尺寸等于掩膜规则尺寸； 对所述第一修正版图进行第一曝光处理获取第一曝光版图，所述第一曝光版图包括第一曝光图形和第二曝光图形，所述第一曝光图形包括与所述第一修正边相对应的第一曝光边、以及与所述第二修正边相对应的第二曝光边，所述第二曝光图形包括与所述第三修正边相对应的第三曝光边、以及与所述第四修正边相对应的第四曝光边，所述第三曝光边与所述第四曝光边之间具有第二间距尺寸，所述第二间距尺寸小于或等于预设间距尺寸； 提供目标版图，所述目标版图包括第一目标图形，所述第一目标图形包围所述第一曝光图形，所述第一目标图形包括与所述第一曝光边相对应的第一目标边； 获取所述第一曝光边与所述第一目标边之间的第一边缘放置误差； 提供预设边缘放置误差范围； 对所述第一修正版图进行若干次光学邻近修正，若干次所述光学邻近修正用于平移所述第一修正边和所述第二修正边以使得所述第一边缘放置误差位于所述预设边缘放置误差范围内，以及平移所述第三修正边以增大所述第二间距尺寸至大于所述预设间距尺寸，且所述第一间距尺寸大于或等于所述掩膜规则尺寸，获取第二修正版图。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，其通讯地址为：201203 上海市浦东新区张江路18号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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