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龙图腾网获悉哈尔滨工业大学申请的专利一种明暗场融合谐波显微成像装置及方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116840256B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310807278.9，技术领域涉及：G01N21/95；该发明授权一种明暗场融合谐波显微成像装置及方法是由王伟波;吴必伟;谭久彬设计研发完成，并于2023-07-04向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种明暗场融合谐波显微成像装置及方法在说明书摘要公布了：本发明涉及一种用于二维半导体晶体缺陷检测的明暗场融合谐波显微成像装置及方法，属于光学显微成像技术领域。本发明装置包括激光光源系统、谐波信号激发系统、明场信号探测系统、暗场信号探测系统以及控制与数据处理系统。本发明通过暗场空间滤波器滤除明场照明谐波信号以收集大波矢量暗场辐射谐波信号，并采用明场谐波显微图像与暗场谐波显微图像同时探测并融合的模式进行晶体缺陷检测。本发明利用不同取向晶体缺陷的谐波信号干涉效应，通过大角度谐波辐射以及明暗场谐波图像融合将晶体缺陷和缺陷边缘显示为高对比度图像。本发明的有益效果：提升二维半导体晶体缺陷检测的灵敏度和信噪比。

本发明授权一种明暗场融合谐波显微成像装置及方法在权利要求书中公布了：1.一种明暗场融合谐波显微成像方法，它运用一种明暗场融合谐波显微成像装置，其特征在于，该装置包括：激光光源系统1，用于生成谐波信号激发光，所述谐波信号激发光用于激发放置于三维位移台上的样品3；谐波信号激发系统2，设置于所述激光光源系统1的出射光路上，用于对激发光束在样品表面进行扫描并激发谐波信号；明场信号探测系统4，用于在明场模式下采集和探测经所述谐波信号激发系统2所激发出的谐波信号；暗场信号探测系统5，用于谐波信号的空间分离，在暗场散射模式下采集和探测经所述谐波信号激发系统2所激发出的谐波信号；控制与数据处理系统6，用于对明暗场融合谐波显微成像装置进行时序控制，明暗场探测模式控制，并根据所采用的探测模式对谐波信号进行处理，以获得所述样品3的明暗场融合谐波显微图像； 上述装置运用如下步骤： 1激光光源系统1出射谐波信号激发光，调整输出光束的尺寸； 2谐波信号激发系统2利用所述光束尺寸调整后的激发光对样品进行扫描，激发样品生成谐波信号，同时聚焦物镜205收集谐波信号，谐波信号返回传递至二向色镜104进行滤波； 3明场信号探测系统4利用收集物镜401收集前向散射谐波信号，滤光后由第一谐波信号探测器404探测； 4暗场信号探测系统5接收来自二向色镜104滤波的背向散射谐波信号，并经由暗场空间滤波器503滤除明场照明谐波信号以收集大波矢量暗场散射谐波信号，滤光后由第二谐波信号探测器505探测； 5控制与数据处理系统6对明场信号探测系统4和暗场信号探测系统5探测到的明场及暗场谐波信号进行处理，生成样品的明暗场融合谐波图像； 其中，利用前向和背向散射谐波信号同时生成明场和暗场谐波显微图像，并通过提取晶体缺陷及边缘特征进行图像融合。

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