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龙图腾网获悉联合微电子中心有限责任公司申请的专利光学超构表面器件及其设计方法和制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116719105B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-17发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202310702245.8，技术领域涉及：G02B1/00；该发明授权光学超构表面器件及其设计方法和制造方法是由李瑜;曹国威设计研发完成，并于2023-06-13向国家知识产权局提交的专利申请。

本光学超构表面器件及其设计方法和制造方法在说明书摘要公布了：一种光学超构表面器件的设计方法，光学超构表面器件包括衬底和衬底上的周期性排列的多个超构结构单元，该方法包括：获取表示相应超构结构单元的单元图案，单元图案包括具有多个像素的像素阵列，每一个像素具有第一状态或第二状态；响应于确定超构结构单元的透射性能不满足预设条件，循环执行以下操作：确定多个像素各自的权值；基于权值，随机翻转多个像素中的一组一个或多个像素的状态以得到当前单元图案；并且基于对当前单元图案所表示的超构结构单元的光学仿真，选择性地维持多个像素各自的状态或将一组一个或多个像素的状态恢复为翻转之前的状态；响应于确定超构结构单元的透射性能满足预设条件，生成定义光学超构表面器件的描述信息。

本发明授权光学超构表面器件及其设计方法和制造方法在权利要求书中公布了：1.一种光学超构表面器件的设计方法，所述光学超构表面器件包括衬底和所述衬底上的周期性排列的多个超构结构单元，所述方法包括： 获取表示所述多个超构结构单元中的相应超构结构单元的单元图案，其中，所述单元图案包括具有多个像素的像素阵列，所述多个像素中的每一个像素具有第一状态或第二状态，所述第一状态表示所述超构结构单元中与该像素对应的位置存在超构材料，所述第二状态表示所述超构结构单元中与该像素对应的位置不存在所述超构材料； 基于对所述超构结构单元的光学仿真，确定所述超构结构单元的透射性能不满足预设条件； 响应于确定所述超构结构单元的透射性能不满足预设条件，循环执行以下第一步骤至第三步骤： 在第一步骤中，确定所述多个像素各自的权值，包括： 计算所述像素阵列对应的拉普拉斯矩阵；以及 根据所述多个像素在所述拉普拉斯矩阵中分别对应的拉普拉斯值，分配所述多个像素各自的权值，其中，所述多个像素各自的权值与所述多个像素分别对应的拉普拉斯值成正相关； 在第二步骤中，基于所述权值，随机翻转所述多个像素中的一组一个或多个像素的状态以得到当前单元图案；并且 在第三步骤中，基于对所述当前单元图案所表示的所述超构结构单元的光学仿真，选择性地维持所述多个像素各自的状态或将所述一组一个或多个像素的状态恢复为翻转之前的状态；以及 响应于确定所述超构结构单元的透射性能满足所述预设条件，生成定义所述光学超构表面器件的描述信息。

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