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龙图腾网获悉普森美微电子技术(苏州)有限公司申请的专利基于图像处理的合金电阻表面缺陷实时检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120894367B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511415792.3，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权基于图像处理的合金电阻表面缺陷实时检测方法及系统是由唐彬;涂振坤设计研发完成，并于2025-09-30向国家知识产权局提交的专利申请。

本基于图像处理的合金电阻表面缺陷实时检测方法及系统在说明书摘要公布了：本申请涉及电阻缺陷检测领域，尤其涉及基于图像处理的合金电阻表面缺陷实时检测方法及系统；方法包括步骤：采集合金电阻表面图像，计算像素点的局部突扰因子，分析像素点的邻域内的灰度偏移情况和梯度方向偏转情况，计算灰度纹理扰动因子；计算局部缺陷响应因子；获取各候选区域，分析各候选区域的形状，并结合候选区域内像素点的局部缺陷影响因子构建显著区域结构响应度；赋予灰度电阻表面图像中各像素点的疑似异常权重，基于疑似异常权重结合灰度值构建加权灰度直方图，使用Otsu阈值分割算法获取权重灰度直方图中的分割阈值，对合金电阻表面缺陷进行检测；提高了合金电阻表面缺陷检测的精度。

本发明授权基于图像处理的合金电阻表面缺陷实时检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.基于图像处理的合金电阻表面缺陷实时检测方法，其特征在于，包括步骤：获取合金电阻的灰度电阻表面图像，基于灰度电阻表面图像中各像素点与其邻域内最大灰度值之间的差异情况计算局部突扰因子；分析像素点的邻域内的灰度偏移情况和梯度方向的差异情况计算灰度纹理扰动因子；计算归一化的局部突扰因子和归一化的灰度纹理扰动因子的乘积作为局部缺陷响应因子； 基于局部缺陷响应因子对灰度电阻表面图像进行聚类分析获取各候选区域，分析各候选区域的形状特征，结合候选区域内像素点的局部缺陷影响因子构建显著区域结构响应度，包括：分析各候选区域的几何形状特征获取各候选区域的几何形状因子，将候选区域中像素点的局部缺陷响应因子的最大值与各候选区域的几何形状因子的比值作为候选区域的显著区域结构响应度，所述显著区域结构响应度与局部缺陷影响因子为正相关关系；基于显著区域结构响应度赋予灰度电阻表面图像中各像素点的疑似异常权重，疑似异常权重为像素点所在的候选区域的归一化后的显著区域结构响应度，根据疑似异常权重结合灰度值构建加权灰度直方图，使用Otsu阈值分割算法获取权重灰度直方图中的分割阈值，对合金电阻表面缺陷进行检测。

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