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龙图腾网获悉匠岭科技(上海)有限公司申请的专利理论光谱库建库的方法、测量方法及其电子设备、介质、程序产品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119026191B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202410987641.4，技术领域涉及：G06F30/10；该发明授权理论光谱库建库的方法、测量方法及其电子设备、介质、程序产品是由陈慧萍;党江涛;胡晔琳;黄鲲设计研发完成，并于2024-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本理论光谱库建库的方法、测量方法及其电子设备、介质、程序产品在说明书摘要公布了：本发明公开了一种理论光谱库建库的方法、测量方法及其电子设备、介质、程序产品。其中，所述理论光谱库建库的方法，包括：将一半导体器件进行几何建模，设置用于描述所述几何模型的结构参数及所述结构参数的浮动范围；将所述几何模型划分为多个主模块，并针对每一主模块对应选取所述主模块的结构参数集合；针对所述主模块的结构参数集合中的每一结构参数的每一浮动值，定义每一主模块所对应的模块结构集合，以构建主模块结构库；根据OCD测量对应的条件，对应所述主模块结构库中每一模块结构分别计算其散射矩阵传输矩阵，并与所述主模块一一对应保存，以构建主模块数据库。本发明通过减少重复计算，使得计算时间大大减少。

本发明授权理论光谱库建库的方法、测量方法及其电子设备、介质、程序产品在权利要求书中公布了：1.一种理论光谱库建库的方法，其特征在于，包括： 将半导体器件进行几何建模，设置用于描述所述半导体器件的几何模型的结构参数及所述结构参数的浮动范围；其中，所述半导体器件包括同一批次产品在不同工艺阶段和工艺参数下的所有半导体结构； 根据半导体工艺流程，基于所述半导体器件中的材料或和形状的一致性，将所述所有半导体结构划分为多个非重复的主模块，并针对每一主模块对应选取所述主模块的结构参数集合； 针对所述主模块的结构参数集合中的每一结构参数的每一浮动值，定义每一主模块所对应的模块结构集合，以构建主模块结构库； 根据OCD测量对应的条件，对应所述主模块结构库中每一模块结构分别计算其散射矩阵传输矩阵，并与所述主模块一一对应保存，以构建主模块数据库； 根据所述半导体器件的结构，将所有主模块结构库中的模块结构进行排列组合，定义每一半导体器件所对应的结构模型，以构建器件结构库； 按照器件结构库中每个半导体器件所对应的结构模型的主模块的排列顺序，对其散射矩阵或者传输矩阵进行迭代得到每个半导体器件所对应的结构模型的散射矩阵传输矩阵，用以计算所有理论光谱，以保存至所述理论光谱库； 所述理论光谱库适于与待测半导体器件的测量光谱进行库匹配，以得到与所述测量光谱最接近的最佳理论光谱。

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