南亚科技股份有限公司龚耀雄获国家专利权
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龙图腾网获悉南亚科技股份有限公司申请的专利形成电容器的方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115440730B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111213265.6,技术领域涉及:H10B12/00;该发明授权形成电容器的方法是由龚耀雄;赖朝文设计研发完成,并于2021-10-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本形成电容器的方法在说明书摘要公布了:本公开提供一种形成电容器的方法,包括在基板上形成堆叠,其包括支撑层、在支撑层上的第一材料层和在第一材料层上方的第二材料层,其中至少第一材料层包括可灰化材料。方法还包括图案化堆叠以在堆叠中形成第一开口、在第一开口中形成包括第二开口的第一电极、移除第二材料层以暴露第一电极的外侧表面的上部、灰化第一材料层以暴露第一电极的外侧表面的下部,以及在第一电极的第二开口中和第一电极的外侧表面上形成介电层和第二电极。由于本公开的形成电容器的方法使用灰化工艺移除堆叠下部的材料层,使得堆叠中的电极在支撑层中可以避免摇摆,从而增加电容器的可靠度。
本发明授权形成电容器的方法在权利要求书中公布了:1.一种形成电容器的方法,其特征在于,包括: 形成堆叠在基板上,该堆叠包括第一支撑层、在该第一支撑层上的第一材料层和在该第一材料层上方的第二材料层,其中至少该第一材料层包括可灰化材料; 图案化该堆叠以形成第一开口在该堆叠中; 形成第一电极在该第一开口中,该第一电极包括第二开口; 移除该第二材料层,以暴露该第一电极的外侧表面的上部; 使用等离子体的灰化工艺移除该第一材料层,以暴露该第一电极的该外侧表面的下部; 使用湿式化学清洗工艺,以移除该灰化工艺的残留物;以及 形成介电层和第二电极在该第一电极的该第二开口中和该第一电极的该外侧表面上。
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