应用材料公司赵国衡获国家专利权
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龙图腾网获悉应用材料公司申请的专利高灵敏度的基于影像的反射测量获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115427754B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180027634.4,技术领域涉及:G01B11/06;该发明授权高灵敏度的基于影像的反射测量是由赵国衡;梅迪·瓦泽-艾拉瓦尼设计研发完成,并于2021-03-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本高灵敏度的基于影像的反射测量在说明书摘要公布了:用于执行成像反射测量的方法包括:使用包括特定结构的测量区域的多个影像及或使用各自与测量区域内的特定结构相关联的多个像素,来确定代表反射强度值。使用代表反射强度值来确定与特定结构相关联的参数。
本发明授权高灵敏度的基于影像的反射测量在权利要求书中公布了:1.一种用于执行成像反射测量的方法,所述方法包括: 使用输入射束照射样品上的测量区域; 在成像传感器处接收所述输入射束的从所述样品反射的部分; 使用所述输入射束的从所述样品反射且在所述成像传感器处接收的所述部分获得所述测量区域的多个影像,所述多个影像中的每一者均包括多个像素,其中对应像素包括来自所述多个影像中的每一者且在所述多个影像中的每一者中与所述测量区域的相同的一部分相关联的单个像素; 为所述多个影像的每个影像中的所述多个像素的每个像素确定反射强度值; 基于所述对应像素中的每个像素的所述反射强度值为所述对应像素中的每个像素确定代表反射强度值;及 至少部分地基于所述多个影像中的所述对应像素的每一者的所述代表反射强度值,来确定与所述测量区域内的所述样品的表面上的结构相关联的参数,所述对应像素与所述结构相关联。
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