联华电子股份有限公司胡国信获国家专利权
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龙图腾网获悉联华电子股份有限公司申请的专利光学邻近修正操作方法与光学邻近修正操作装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115373225B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110533878.1，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光学邻近修正操作方法与光学邻近修正操作装置是由胡国信;赵育逵;邱崇益设计研发完成，并于2021-05-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本光学邻近修正操作方法与光学邻近修正操作装置在说明书摘要公布了：本发明公开一种光学邻近校正操作方法与光学邻近校正操作装置。光学邻近校正操作方法包括以下步骤。获得一光掩模布局图。若光掩模布局图具有至少一缺陷热点，则根据缺陷热点，从光掩模布局图取出至少一局部区域图案。以一机器学习模型分析局部区域图案，以获得至少一光学邻近校正策略。执行光学邻近校正策略，修正光掩模布局图。
本发明授权光学邻近修正操作方法与光学邻近修正操作装置在权利要求书中公布了：1.一种光学邻近校正操作方法，包括： 获得光掩模布局图； 若该光掩模布局图具有至少一缺陷热点，则根据该缺陷热点，从该光掩模布局图取出至少一缺陷热点邻近区域图案； 以机器学习模型分析该至少一缺陷热点邻近区域图案，以获得一个以上光学邻近校正策略，并利用成本分析法挑选出最适当的光学邻近校正策略；以及 执行该最适当的光学邻近校正策略，以修正该光掩模布局图。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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