大日本印刷株式会社宫谷勋获国家专利权
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龙图腾网获悉大日本印刷株式会社申请的专利蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀装置以及有机器件的制造方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115198230B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210364282.8，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀装置以及有机器件的制造方法是由宫谷勋;池永知加雄;中村阳子;井上功设计研发完成，并于2022-04-08向国家知识产权局提交的专利申请。
本蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀装置以及有机器件的制造方法在说明书摘要公布了：本公开提供蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀装置以及有机器件的制造方法。本公开的实施方式的蒸镀掩模具备第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及2个以上的贯通孔。贯通孔包括位于第1面的第1凹部和位于第2面的第2凹部。蒸镀掩模具备：掩模第1区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第1面残存率；以及掩模第2区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第2面残存率，第2面残存率大于第1面残存率。
本发明授权蒸镀掩模、蒸镀掩模装置、蒸镀装置以及有机器件的制造方法在权利要求书中公布了：1.一种蒸镀掩模，其中， 所述蒸镀掩模具备： 第1面； 第2面，其位于与所述第1面相反的一侧；以及 2个以上的贯通孔，它们从所述第1面延伸到所述第2面， 所述贯通孔包括：第1凹部，其位于所述第1面；第2凹部，其位于所述第2面，与所述第1凹部连通；以及棱线，其与所述第1凹部的壁面和所述第2凹部的壁面连接，从所述第1凹部的壁面和所述第2凹部的壁面向所述贯通孔的内侧突出， 所述棱线位于相比于所述第2面更靠所述第1面侧的位置， 所述蒸镀掩模具备：掩模第1区域，其具有表示所述第2面所残存的面积的比率的第1面残存率；和掩模第2区域，其具有表示所述第2面所残存的面积的比率的与所述第1面残存率不同的第2面残存率，所述第2面残存率大于所述第1面残存率，由此提高所述蒸镀掩模的机械强度。
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