诺思(天津)微系统有限责任公司班圣光获国家专利权
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龙图腾网获悉诺思(天津)微系统有限责任公司申请的专利谐振器及其形成方法、电子设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115149918B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2026-04-14发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110346072.1，技术领域涉及：H03H3/02；该发明授权谐振器及其形成方法、电子设备是由班圣光;郑志强设计研发完成，并于2021-03-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本谐振器及其形成方法、电子设备在说明书摘要公布了：本发明公开了谐振器及其形成方法，以及电子设备。该谐振器的形成方法包括：在衬底之上形成声学镜结构；在声学镜结构之上形成底电极；在底电极之上形成压电层；在压电层之上形成顶电极；还包括：在底电极的下方、压电层的下方、顶电极的下方、顶电极的上方或者各膜层的内部形成图形化的负载层，该步骤具体包括：形成图形化的光刻胶层，光刻胶层的厚度小于预设厚度阈值；沉积图形化的负载层；去除光刻胶层。本发明通过控制光刻胶层的厚度保证了的图形化的负载层的图形精度，加工结果具有较好的均一性和重复性，对谐振器性能产生有利影响，提高了器件良率。
本发明授权谐振器及其形成方法、电子设备在权利要求书中公布了：1.一种谐振器的形成方法,其特征在于,包括: 在衬底之上形成声学镜结构; 在所述声学镜结构之上形成底电极; 在所述底电极之上形成压电层; 在所述压电层之上形成顶电极; 还包括:在所述底电极的下方、所述压电层的下方、所述顶电极的下方、所述顶电极的上方或者各膜层的內部形成图形化的负载层,该步骤具体包括: 形成图形化的光刻胶层,所述光刻胶为负性光刻胶,所述光刻胶层的厚度小于预设厚度阈值; 沉积图形化的负载层; 去除所述光刻胶层； 所述预设厚度阈值为2.8-3.3微米。
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